[发明专利]半导体结构、显示面板及电子元件模块的制造方法有效

专利信息
申请号: 202110007296.X 申请日: 2021-01-05
公开(公告)号: CN112864146B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 吴柏威;罗玉云;郭建桢;蔡昌峯;林子旸 申请(专利权)人: 錼创显示科技股份有限公司
主分类号: H01L25/16 分类号: H01L25/16;H01L25/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 宋兴;刘芳
地址: 中国台湾新竹科学园*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 结构 显示 面板 电子元件 模块 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体结构,其特征在于,包括:

基板;

多个第一微型电子元件;以及

至少一第二微型电子元件,其中所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件分布于所述基板上,所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件为同属性元件,但所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件之间具备外观差异、高度差异以及定向差异中的至少一者;以及

第一缓冲层以及第二缓冲层,其中所述第一缓冲层设置于所述多个第一微型电子元件以及所述基板之间,所述第二缓冲层设置于所述至少一第二微型电子元件以及所述基板之间,且所述第一缓冲层以及所述第二缓冲层之间具备材料差异、外观差异、高度差异以及定向差异中的至少一者。

2.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述基板为临时基板。

3.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件为微型发光二极管,发光颜色相同,但所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件之间还具备发光波长差异以及发光强度差异中的至少一者。

4.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件之间的所述外观差异为外观色泽差异。

5.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件之间的所述外观差异为尺寸差异,且所述尺寸差异符合条件式:0<D12/W1≤10%,其中W1为每一第一微型电子元件在垂直于所述基板的法线方向的方向上的宽度,且D12为每一第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件在所述方向上的宽度差异,D12为正数。

6.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述至少一第二微型电子元件的数量为多个,且所述多个第一微型电子元件以及所述多个第二微型电子元件之间的所述定向差异彼此相同。

7.一种显示面板,其特征在于,包括:

显示基板;

多个第一微型电子元件;以及

至少一第二微型电子元件;

其中所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件分布于所述显示基板上并电性连接所述显示基板,所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件为同属性元件,但所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件之间具备外观差异、高度差异以及定向差异中的至少一者,所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件为微型发光二极管,发光颜色相同,但所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件之间还具备发光波长差异以及发光强度差异中的至少一者,所述至少一第二微型电子组件占所述显示基板上的所述多个第一微型电子组件和所述至少一第二微型电子组件总合的比值小于10%。

8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件之间的所述外观差异为外观色泽差异。

9.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述多个第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件之间的所述外观差异为尺寸差异,且所述尺寸差异符合条件式:0<D12/W1≤10%,其中W1为每一第一微型电子元件在垂直于所述显示基板的法线方向的方向上的宽度,且D12为每一第一微型电子元件以及所述至少一第二微型电子元件在所述方向上的宽度差异,D12为正数。

10.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述至少一第二微型电子元件的数量为多个,且所述多个第一微型电子元件以及所述多个第二微型电子元件之间的所述定向差异彼此相同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于錼创显示科技股份有限公司,未经錼创显示科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110007296.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top