[发明专利]一种量子点显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种量子点显示面板，其特征在于，所述显示面板自下到上依次包括衬底基板、薄膜晶体管层、透明阳极层、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层及金属阴极层；

其中，所述量子点发光层上部制备有用于对量子点发光层进行包裹的封装层，所述封装层包括置于量子点发光层两侧的阻隔层，所述阻隔层两侧依次制备有PET基材层和光学结构层，所述光学结构层可增加蓝光折返路径以及均匀量子点发光层发光。

2.根据权利要求1所述的一种量子点显示面板，其特征在于，所述衬底基板为玻璃基板或柔性透明基板，所述玻璃基板采用蓝宝石、石英或玻璃材料作为衬底，所述柔性透明基板为在可见光区透光率大于90％的无色、高透明聚酰亚胺薄膜。

3.根据权利要求1所述的一种量子点显示面板，其特征在于，所述量子点发光层主要包括量子点以及量子点的载体层，所述载体层硅胶、PMMA、PC、PVA、EVA、环氧树脂、聚氨酯、光刻胶或是PVP材料的一种。

4.根据权利要求3所述的一种量子点显示面板，其特征在于，所述量子点采用InP/ZnSe/ZnS核壳型荧光量子点，在初始ZnSe壳的生长过程中添加氢氟酸，以蚀刻掉氧化InP核表面，然后在340℃下实现高温ZnSe的生长。

5.根据权利要求1所述的一种量子点显示面板，其特征在于，所述电子传输层的材料为ZnO、TiO2、SnO、ZrO2、Ta2O3、AlZnO、ZnSnO和InSnO中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的一种量子点显示面板，其特征在于，所述空穴传输层的材料为NPB、TPD、TAPC和p-TPD中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的一种量子点显示面板，其特征在于，所述空穴注入层的材料为PEDOT:PSS、CuPc、F4-TCNQ、HATCN、氧化钼、氧化钒、氧化钨、氧化铬、MoS2、WS2、MoSe2、WSe2中的一种或多种；所述透明阳极层材料为ITO、IZO、石墨烯或导电聚合物。

8.一种量子点显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一衬底基板，在所述衬底基板上形成像素定义层；

采用溶液成膜方法在透明阳极层上分别形成数个空穴注入层；

提供电化学活性材料，将所述电化学活性材料与溶剂混合后，涂布于数个空穴注入层上，形成数个聚合物薄膜，聚合物薄膜即为空穴传输层；

通过狭缝涂布工艺制备量子点膜，所述量子点膜即为电子传输层；

在衬底基板上依次制作薄膜晶体管层、透明阳极层、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层和金属阴极层，完成量子点显示面板的制作。

9.根据权利要求8所述的，其特征在于，所述狭缝涂布工艺制备量子点膜步骤为：

在PET基材一侧表面制作光学微纳结构；

在PET基材另一侧表面制作阻隔层；

在阻隔层之间涂布具有量子点材料的聚合物胶；

通过热固化或光固化工艺处理，形成多层复合结构，即为量子点发光层。

10.根据权利要求9所述的，其特征在于，所述阻隔层采用隔氧阻水的SiO2涂层，所述光学微纳结构为均匀阵列在PET基材表面的半球形或圆锥形微结构。