[发明专利]一种基于城轨项目需求识别和覆盖的方法及装置有效
申请号: | 202110010112.5 | 申请日: | 2021-01-06 |
公开(公告)号: | CN112347131B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 刘常荣;杨菲 | 申请(专利权)人: | 卡斯柯信号(北京)有限公司 |
主分类号: | G06F16/2452 | 分类号: | G06F16/2452;G06F40/30;G06Q50/26 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 任媛;刘铁生 |
地址: | 100160 北京市丰台区南四*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 项目 需求 识别 覆盖 方法 装置 | ||
1.一种基于城轨项目需求识别和覆盖的方法,其特征在于,所述方法包括:
读取项目需求矩阵和典型需求矩阵,所述项目需求矩阵包含1或多条项目需求信息,所述项目需求信息对应于从技术合同文档中摘取的需求点,所述典型需求矩阵包含1或多条特征需求信息,所述特征需求信息对应于根据历史技术合同预先总结的特征需求点;
将城轨项目对应的整个技术需求划分成多个子需求,每个子需求对应一个子系统提供需求服务;
从所述多个子需求中逐个选择目标子需求,用于在每个目标子需求下查找项目需求信息对应的可覆盖的典型需求;
通过将所述项目需求信息和所述特征需求信息进行比较,进行语义相似度计算;
若计算语义相似度达到预设阈值,则将所述特征需求信息标记为可覆盖的典型需求;
将所述可覆盖的典型需求填充进入所述项目需求信息对应的典型需求记录中;
分别对可覆盖的典型需求和项目需求信息进行分词处理;
统计所述项目需求信息对应分词的数量;
通过比对所述可覆盖的典型需求对应分词和所述项目需求信息对应分词,获取相同分词的数量;
通过计算所述相同分词的数量与所述项目需求信息对应分词的数量之间的比值,确定覆盖符合率;
若判断所述覆盖符合率达到标准阈值,则确定需求覆盖合理;
若判断所述覆盖符合率未达到标准阈值,则确定需求覆盖不合理;
启动人工验证需求覆盖程度的步骤。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述若计算语义相似度达到预设阈值,则将所述特征需求信息标记为可覆盖的典型需求,包括:
若一条项目需求信息分别和多条特征需求信息之间的语义相似度达到预设阈值,则从所述项目需求信息对应的多个语义相似度数值中选择最高的语义相似度数值;
将所述最高的语义相似度数值对应的特征需求信息标记为可覆盖的典型需求。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,若所述项目需求信息不存在匹配的特征需求信息,所述方法还包括:
若检测到输出的所述项目需求信息对应的典型需求记录为空,则以人机交互界面推送特征需求信息;
通过响应人机交互界面的反馈,将所述反馈对应的特征需求信息填充进入对应的典型需求记录。
4.一种基于城轨项目需求识别和覆盖的装置,其特征在于,所述装置包括:
读取单元,用于读取项目需求矩阵和典型需求矩阵,所述项目需求矩阵包含1或多条项目需求信息,所述项目需求信息对应于从技术合同文档中摘取的需求点,所述典型需求矩阵包含1或多条特征需求信息,所述特征需求信息对应于根据历史技术合同预先总结的特征需求点;
划分单元,用于将城轨项目对应的整个技术需求划分成多个子需求,每个子需求对应一个子系统提供需求服务;
选择单元,用于从所述划分单元得到的多个子需求中逐个选择目标子需求,用于在每个目标子需求下查找项目需求信息对应的可覆盖的典型需求;
计算单元,用于通过将所述项目需求信息和所述特征需求信息进行比较,进行语义相似度计算;
标记单元,用于若计算语义相似度达到预设阈值,则将所述特征需求信息标记为可覆盖的典型需求;
填充单元,用于将所述可覆盖的典型需求填充进入所述项目需求信息对应的典型需求记录中;
处理单元,用于在所述将所述可覆盖的典型需求填充进入所述项目需求信息对应的典型需求记录中之后,分别对可覆盖的典型需求和项目需求信息进行分词处理;
统计单元,用于统计所述项目需求信息对应分词的数量;
获取单元,用于通过比对所述可覆盖的典型需求对应分词和所述项目需求信息对应分词,获取相同分词的数量;
确定单元,用于计算所述相同分词的数量与所述项目需求信息对应分词的数量之间占比值,确定覆盖符合率;
所述确定单元,还用于若判断所述覆盖符合率达到标准阈值时,则确定需求覆盖合理;
所述确定单元,还用于若判断所述覆盖符合率未达到标准阈值时,则确定需求覆盖不合理;
启动单元,用于启动人工验证需求覆盖程度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡斯柯信号(北京)有限公司,未经卡斯柯信号(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110010112.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种纳米压印制备OLED阳极的方法
- 下一篇:一种立式高速磨削设备