[发明专利]质子束流的测量装置及系统

权利要求书

1.一种质子束流的测量装置，其特征在于，包括：

壳体结构，具有真空容置空间；

测量结构，套设于所述壳体结构的真空容置空间中，用于质子束流的测量；

其中，所述测量结构包括：

阵列件，具有均匀分布设置的多个法拉第筒，用于实现质子束流的注量率和均匀性的测量。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述阵列件还包括：

支撑板，垂直于所述质子束流的入射方向、并设置于所述壳体结构的真空容置空间中，用于作为所述多个法拉第筒的支撑结构。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述支撑板的边缘与所述壳体结构的内表面相互绝缘抵接。

4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述支撑板包括：

多个设置孔，均匀分布设置于所述支撑板上，所述多个设置孔的每个设置孔贯穿所述支撑板，用于一一对应设置所述多个法拉第筒，以形成所述阵列件。

5.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述测量结构还包括：

高压板，沿所述质子束流的入射路径设置于所述阵列件的所述多个法拉第筒的前方，用于在被施加高压时防止电子从所述多个法拉第筒中逸出。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述高压板与所述多个法拉第筒中每个法拉第筒之间具有间隙，使所述高压板与所述多个法拉第筒之间绝缘。

7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述高压板包括：

多个光阑孔，所述多个光阑孔的每个光阑孔贯穿所述高压板并与所述多个法拉第筒中每个法拉第筒对应，用于使得入射的质子束流保持准直特性。

8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述测量结构还包括：

多个前支柱，所述多个前支柱均匀分布设置于所述高压板和所述支撑板之间，用于对所述高压板进行支撑，使得所述高压板与所述阵列件之间绝缘。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述多个前支柱的每个前支柱的一端穿设于所述支撑板上，另一端抵接于所述高压板上。

10.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述壳体结构包括：

筒体，为沿所述质子束流入射路径设置的筒柱状结构，用于套设所述测量结构。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述壳体结构还包括：

前面板，与所述筒体的一端的边缘固定设置，用于形成所述壳体结构的迎束面。

12.根据权利要求11所述的装置，其特征在于，所述前面板包括：

多个准直孔，所述多个准直孔的每个准直孔贯穿所述前面板并与所述多个法拉第筒中每个法拉第筒对应，用于使得入射的质子束流具有准直特性。

13.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述壳体结构还包括：

后面板，与所述筒体的另一端的边缘固定设置，用于形成所述壳体结构的背束面。

14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述后面板沿所述质子束流的入射路径设置于所述阵列件的所述多个法拉第筒的后方，用于为所述测量结构提供支撑。

15.根据权利要求14所述的装置，其特征在于，所述测量结构还包括：

多个后支柱，所述多个后支柱均匀分布设置于所述后面板和所述支撑板之间，用于对所述支撑板进行支撑。

16.根据权利要求15所述的装置，其特征在于，所述多个后支柱的每个后支柱的一端穿设于所述支撑板上，另一端抵接于所述后面板上，使得所述后面板与所述阵列件之间绝缘。