[发明专利]微米级束流分布的测试方法及装置

权利要求书

1.一种微米级束流分布的测试方法，包括：

对固体径迹探测器的表面进行坐标标记，沿预设方向在所述表面依次形成基准区域、至少一个定位束斑阵列区域及目标束斑阵列区域，记录各区域的坐标位置；

根据所述坐标位置，采用微束束流照射所述至少一个定位束斑阵列区域及目标束斑阵列区域，其中，照射后，沿所述基准区域指向所述目标束斑阵列区域的方向，各区域中束斑的尺寸依次递减；

对微束束流照射后的固体径迹探测器的表面进行刻蚀，将所述微束束流的分布转化为固体径迹探测器表面上离子径迹的分布；

根据所述基准区域、至少一个定位束斑阵列区域在刻蚀后的表面定位所述目标束斑阵列区域中的目标束斑，统计所述目标束斑的二维分布。

2.根据权利要求1所述的测试方法，其中，所述对固体径迹探测器的表面进行坐标标记，沿预设方向在所述表面依次形成基准区域、至少一个定位束斑阵列区域及目标束斑阵列区域，包括：

从所述表面的边缘至内部或内部至边缘沿预设方向依次标注所述基准区域、至少一个定位束斑阵列区域及目标束斑阵列区域。

3.根据权利要求1所述的测试方法，其中，利用准直显微镜对塑料径迹探测器固体径迹探测器的表面进行坐标标记。

4.根据权利要求1所述的测试方法，其中，所述根据所述坐标位置，采用微束束流照射所述至少一个定位束斑阵列区域及目标束斑阵列区域，包括：

沿所述基准区域指向所述目标束斑阵列区域的方向，依次选用尺寸依次递减的微束束流照射所述至少一个定位束斑阵列区域至目标束斑阵列区域。

5.根据权利要求1所述的测试方法，其中，所述根据坐标位置，采用微束束流照射至少一个定位束斑阵列区域及目标束斑阵列区域，包括：

沿所述目标束斑阵列区域指向所述基准区域的方向，依次选用尺寸依次递增的微束束流照射所述目标束斑阵列区域及至少一个定位束斑阵列区域。

6.根据权利要求1所述的测试方法，其中，所述对微束束流照射后的固体径迹探测器的表面进行刻蚀，包括：

采用氢氧化钠溶液对微束束流照射后的固体径迹探测器的表面进行化学蚀刻。

7.根据权利要求6所述的测试方法，其中，根据所述微束束流对应的离子种类及能量大小确定所述氢氧化钠溶液的浓度及化学刻蚀的时间、温度。

8.根据权利要求1所述的测试方法，其中，所述根据所述基准区域、至少一个定位束斑阵列区域在刻蚀后的表面定位所述目标束斑阵列区域中的目标束斑，包括：

使用扫描电镜或高放大倍数的光学显微镜定位所述目标束斑，包括：

在扫描电镜或高放大倍数的光学显微镜的视野中确定所述基准区域的位置；

基于确定的所述基准区域的位置，沿所述预设方向依次寻找所述至少一个定位束斑阵列区域的位置；

基于所述至少一个定位束斑阵列区域的位置，继续沿所述预设方向寻找所述目标束斑的位置。

9.根据权利要求1所述的测试方法，其中，所述统计所述目标束斑的二维分布，包括：

统计所述目标束斑内孔径的尺寸大小及均匀性。

10.根据权利要求1所述的测试方法，其中，采用百微米至数百微米级的针孔标记所述基准区域。

11.根据权利要求1-10任一项所述的测试方法，其中，所述固体径迹探测器选择塑料径迹探测器。

12.根据权利要求11所述的测试方法，其中，采用聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯或树脂制作所述塑料径迹探测器。