[发明专利]一种ZnCdS薄膜的制备方法及铜锌锡硫硒太阳电池的制备方法有效
申请号: | 202110011731.6 | 申请日: | 2021-01-06 |
公开(公告)号: | CN112837997B | 公开(公告)日: | 2022-12-13 |
发明(设计)人: | 周正基;袁胜杰;徐圳;武四新 | 申请(专利权)人: | 河南大学 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 王术娜 |
地址: | 475004*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 zncds 薄膜 制备 方法 铜锌锡硫硒 太阳电池 | ||
1.一种ZnCdS薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
将可溶性镉盐、氨水和硫源依次溶于水中,得到混合溶液;所述混合溶液中硫源的浓度为1.0mol/L;
将基底置于所述混合溶液中,向所述混合溶液中滴加锌盐水溶液,进行化学水浴沉积,在基底的表面形成ZnCdS薄膜;所述混合溶液中Cd2+的浓度与滴加的锌盐水溶液中Zn2+的浓度比为1:(50~75);所述锌盐水溶液中Zn2+的浓度为0.01mol/L;所述锌盐水溶液和混合溶液的体积比为2:23;所述化学水浴沉积的温度为60~70℃。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述混合溶液中氨水的浓度为1.8mol/L。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述可溶性镉盐包括硫酸镉;所述锌盐水溶液中的锌盐包括硫酸锌;所述硫源包括硫脲。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述化学水浴沉积的时间为10~20min。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述锌盐水溶液的滴加速度为4mL/min。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述ZnCdS薄膜的厚度为60~70nm。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述化学水浴沉积完成后,还包括将沉积有ZnCdS薄膜的基底分别用去离子水和无水乙醇依次进行冲洗,冲洗干净后烘干。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,将基底置于所述混合溶液中的操作方法为:将基底垂直放置在聚四氟乙烯支架上,再将支架和基底一起放置于混合溶液中。
9.一种铜锌锡硫硒太阳电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
用直流磁控溅射在钠钙玻璃表面沉积背电极Mo层;
在所述背电极Mo层表面沉积CZTSSe吸收层;
采用权利要求1~8任一项所述的制备方法在CZTSSe吸收层表面制备ZnCdS薄膜,作为缓冲层;
用射频磁控溅射在所述缓冲层表面制备本征ZnO层;
用射频磁控溅射在所述ZnO层表面沉积ITO窗口层;
用热蒸发在所述ITO窗口层上沉积Ag栅极,得到铜锌锡硫硒太阳电池。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造