[发明专利]一种聚酰亚胺蒸镀薄膜的制备方法

说明书

本发明公开一种聚酰亚胺蒸镀薄膜的制备方法，本发明的薄膜的制造方法,使用由双胺构成的升华性蒸镀材和由双酐构成的升华性蒸镀材,利用通过真空成膜法同时蒸镀的共蒸镀法,在基材上形成由双胺和双酐反应生成的聚酰胺酸构成的薄膜,退火后亚胺化生成聚酞亚胺，所得薄膜透明性及绝缘性优异。

技术领域

本发明涉及薄膜制备领域，具体涉及一种聚酰亚胺蒸镀薄膜的制备方法。

背景技术

目前，液晶显示器、有机EL显示器或太阳能电池等设备对薄膜的绝缘性透明度的要求越来越高，而国内聚酰亚胺薄膜存在着产品质量差、综合性能不稳定、产品精细化程度不够、品种少等缺点，影响了其应用，生产出的蒸镀薄膜具有电绝缘差、不耐热阻燃、不够透明、厚度不够薄的特点。

发明内容

针对上述现有技术，本发明要实现的技术是：制备一种电绝缘较好、耐热阻燃、透明超薄的聚酰亚胺蒸镀膜。

为了达到上述目的，本发明采用以下方案：

一种聚酰亚胺蒸镀薄膜的制备方法，

步骤一：使用由双胺构成的升华性蒸镀材和由双酐构成的升华性蒸镀材；

步骤二：通过真空成膜法同时蒸镀的共蒸镀法，在基材上形成由双胺和双酐反应生成的聚酰胺酸构成的薄膜；

步骤三：退火后亚胺化生成聚酰亚胺。

进一步地，本发明中的薄膜的厚度以埃为单位进行精确控制。

进一步地，本发明中的薄膜的双胺和双酐的摩尔比率以 1:1～1.01的方式组合。

进一步地，本发明中的升华性蒸镀材的双胺为均苯二胺、对苯二胺、联苯二胺中的至少一种，双酐为均苯二酐、对苯二酐、联苯二酐中的至少一种。

进一步地，本发明中的升华性蒸镀材的双胺和双酐颗粒的平均粒径为10um以下。

进一步地，本发明中的真空成膜法为电子束蒸镀法、离子镀法、反应性等离子体蒸镀法、电阻加热法或感应加热法中的任意一种。

进一步地，本发明中的聚酰胺酸构成的薄膜是在350℃下退火 5min后亚胺化生成聚酰亚胺。

综上所述，本发明相对于现有技术其有益效果是：

本发明是利用真空镀膜法同时蒸镀的共蒸镀法控制反应成膜，材料选择范围广泛，能够制作多种多样的不同组成的聚酰亚胺膜。并且，得到的薄膜的单层绝缘性优异，耐老化性，透明度高，因此可用较少的层叠数得到较高的绝缘性，提高生产效率，降低成本。并且膜厚变薄，能够减轻元件的重量和尺寸。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明作进一步描述：

分别准备平均粒径为8um、纯度为99.95％的高纯度均苯二胶粉末作为第1升华性蒸镀材，准备平均粒径为7um，纯度为99.8％的高纯度均苯二酐粉末作为第一升华性蒸镀材，使用上述两种蒸镀材，在厚度为1mm的石英片上，利用电阻加热法同时蒸镀的共蒸镀，控制膜中的含有率双胺、双酐为1:1.01的薄膜，并形成聚酰亚胺前驱体薄膜片，将前驱体薄膜在350℃下退火5min，亚胺化形成聚酰亚胺，成品后的聚酰亚胺薄膜可达到：