[发明专利]偏光板、光学设备和偏光板的制造方法

权利要求书

1.一种偏光板，是具有线栅结构的偏光板，

具有透明基板、层叠于所述透明基板的第一面的第一防反射层、从所述第一防反射层突出的多个凸部和层叠于与所述第一面相反的第二面的第二防反射层，

所述多个凸部以比使用频带的光的波长更短的间距周期性排列，

各个凸部在第一方向上延伸，且从所述第一面开始依次具有反射层、电介质层和吸收层，

所述第一防反射层和所述第二防反射层具有交替层叠的高折射率层和低折射率层。

2.根据权利要求1所述的偏光板，

所述第一防反射层和所述第二防反射层的层数为5层以上10层以下。

3.根据权利要求1或2所述的偏光板，

所述高折射率层为TiO₂或Nb₂O₅，所述低折射率层为SiO₂。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏光板，

所述第一防反射层的不与所述多个凸部重合的非重叠区域的表面相比于与所述多个凸部重合的重叠区域的表面更接近所述透明基板。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的偏光板，

所述第一防反射层的与所述多个凸部重合的重叠区域的膜厚和不与所述多个凸部重合的非重叠区域的膜厚之差为所述重叠区域的膜厚的9％以下。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的偏光板，

所述第一防反射层的与所述多个凸部重合的重叠区域的膜厚和不与所述多个凸部重合的非重叠区域的膜厚之差为30nm以下。

7.一种光学设备，具有权利要求1～6中任一项所述的偏光板。

8.一种偏光板的制造方法，是具有线栅结构的偏光板的制造方法，具有：

在透明基板的两面将高折射率层和低折射率层交替地成膜、层叠第一防反射层和第二防反射层的工序，

在所述第一防反射层上依次将反射层、电介质层和吸收层层叠、形成层叠体的工序，和

对所述层叠体进行加工，形成以比使用频带的光的波长更短的间距周期性排列的多个凸部的工序。

9.根据权利要求8所述的偏光板的制造方法，

隔着所述多个凸部，对所述第一防反射层的不与所述多个凸部重合的非重叠区域进行蚀刻。