[发明专利]一种靶材成型模具

说明书

本发明公开了靶材成型模具，包括前模、后模。其中后模与前模相配合，二者之间形成用于容纳金属液的浇注型腔。浇注型腔包括浇口、直浇道、帽口、横浇道、靶材铸件型腔，浇口与直浇道相连通，浇口与直浇道的中轴线处于前模与后模的配合面上，直浇道由上至下依次连通有多个圆盘形的帽口，帽口的中心处于前模与后模的配合面上，靶材铸件型腔通过横浇道与帽口相连通，且靶材铸件的最大横截面与前模与后模的配合面重合，靶材成型模具进行浇注时，模具置于旋转平台上，使得靶材成型模具围绕浇口的中轴线旋转。本发明公开的靶材成型模具具有高效制作内部不含缩松缩孔缺陷的靶材。

技术领域

本发明涉及模具领域，尤其涉及一种靶材成型模具。

背景技术

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。现有技术中靶材常用模具进行浇注制成，但是采用现有的模具进行浇注时，存在铸出的靶材内部存在缩孔缩松等缺陷，导致靶材进行溅镀时，存在溅镀不均匀的缺陷，影响靶材的质量。

发明内容

本发明的目的在于提供一种靶材成型模具，以解决现有技术中采用模具进行注塑时铸出靶材内部存在缩松缩孔等缺陷的问题。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：提供一种靶材成型模具，包括：

前模；

后模，所述后模与所述前模相配合，二者之间形成用于容纳金属液的浇注型腔；

所述浇注型腔包括浇口、直浇道、帽口、横浇道、靶材铸件型腔，所述浇口与所述直浇道相连通，所述浇口与所述直浇道的中轴线处于所述前模与所述后模的配合面上，所述直浇道由上至下依次连通有多个圆盘形的帽口，所述帽口的中心处于所述前模与所述后模的配合面上，所述靶材铸件型腔通过所述横浇道与所述帽口相连通，且所述靶材铸件的最大横截面与所述前模与所述后模的配合面重合；

靶材成型模具进行浇注时，模具置于旋转平台上，使得靶材成型模具围绕所述浇口的中轴线旋转。

在一个实施例中，所述帽口的两侧均设置有所述靶材铸件型腔。

在一个实施例中，还包括冷铁，所述冷铁设置于所述靶材铸件型腔的外围的模具上，用于提高所述靶材铸件型腔内的金属液的凝固速度。

在一个实施例中，靶材成型模具进行浇注时，转动的速度控制在100-150r/min。

在一个实施例中，所述浇注型腔内还包括排气孔，所述排气孔设置于所述靶材铸件型腔的顶部，用于在进行浇注时，使得所述浇注型腔内的气体可以快速排出，提高靶材金属液的充型能力。

本发明实施例中上述的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：