[发明专利]一种靶材生产用粉碎研磨装置在审
申请号: | 202110017340.5 | 申请日: | 2021-01-07 |
公开(公告)号: | CN114733624A | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 黄信二 | 申请(专利权)人: | 研创应用材料(赣州)股份有限公司 |
主分类号: | B02C19/00 | 分类号: | B02C19/00;B02C23/00;B02C23/02 |
代理公司: | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人: | 文珊 |
地址: | 341000 江西省赣州市*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 生产 粉碎 研磨 装置 | ||
本发明公开了一种靶材生产用粉碎研磨装置,属于靶材生产技术领域,其技术方案要点是,包括通过多根支脚支撑设置的料槽,料槽的一侧通过支撑柱支撑设置有顶板,顶板的底部固定安装有电机,电机的动力输出端通过传动轴连接有压碎块,压碎块的底部设有若干研磨凸柱,若干研磨凸柱和压碎块的下部伸入至料槽的内部。该种靶材生产用粉碎研磨装置借助电机、压碎块、研磨凸柱将粉碎和研磨操作无缝连接,能够使靶材原料在经过粉碎之后迅速被研磨,从而使得粉碎研磨效率高。
技术领域
本发明涉及靶材生产技术领域,具体为一种靶材生产用粉碎研磨装置。
背景技术
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。在生产靶材时,需要把靶材原材料进行粉碎研磨处理,传统的粉碎研磨装置的效率低下。
发明内容
本发明的目的是提供一种靶材生产用粉碎研磨装置,该种靶材生产用粉碎研磨装置的粉碎研磨效率高。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种靶材生产用粉碎研磨装置,包括通过多根支脚支撑设置的料槽,所述料槽的一侧通过支撑柱支撑设置有顶板,所述顶板的底部固定安装有电机,所述电机的动力输出端通过传动轴连接有压碎块,所述压碎块的底部设有若干研磨凸柱,若干所述研磨凸柱和所述压碎块的下部伸入至所述料槽的内部。
进一步的,围绕所述料槽的开口端设有料斗。
进一步的,所述料槽的底面为可打开的结构。
进一步的,所述支撑柱为可升降结构。
进一步的,所述压碎块的顶部呈圆弧状。
综上所述,本发明具有以下有益效果:
该种靶材生产用粉碎研磨装置,借助电机、压碎块、研磨凸柱将粉碎和研磨操作无缝连接,能够使靶材原料在经过粉碎之后迅速被研磨,从而使得粉碎研磨效率高。
附图说明
图1为本发明的整体结构图;
图2为图1A处的放大结构示意图。
图中:1、料槽;2、支脚;3、料斗;4、支撑柱;5、顶板;6、电机;7、传动轴;8、压碎块;9、研磨凸柱。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-2,一种靶材生产用粉碎研磨装置,包括通过多根支脚2支撑设置的料槽1,料槽1的一侧通过支撑柱4支撑设置有顶板5,顶板5的底部固定安装有电机6,电机6的动力输出端通过传动轴7连接有压碎块8,压碎块8的底部设有若干研磨凸柱9,若干研磨凸柱9和压碎块8的下部伸入至料槽1的内部。
通过以上技术方案,将靶材原料投入料槽1内之后,借助电机6、压碎块 8和研磨凸柱9将粉碎和研磨操作无缝连接,能够使靶材原料在经过粉碎之后迅速被研磨,从而使得粉碎研磨效率高。
进一步的,围绕料槽1的开口端设有料斗3,便于上料。
进一步的,料槽1的底面为可打开的结构,便于下料。
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