[发明专利]衍射光学元件和生成聚焦平顶光斑光束的系统有效
申请号: | 202110019959.X | 申请日: | 2021-01-07 |
公开(公告)号: | CN112782799B | 公开(公告)日: | 2022-04-22 |
发明(设计)人: | 彭亦超 | 申请(专利权)人: | 北京润和微光科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/32 | 分类号: | G02B5/32;G02B27/09 |
代理公司: | 北京知呱呱知识产权代理有限公司 11577 | 代理人: | 康震 |
地址: | 100080 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衍射 光学 元件 生成 聚焦 平顶 光斑 光束 系统 | ||
1.一种衍射光学元件,其特征在于,所述衍射光学元件用于在高斯光入射时,通过衍射和聚焦镜聚焦生成聚焦平顶光斑,所述衍射光学元件包括:
高斯光接收模块,用于接收高斯光入射;
相位调制模块,用于对所述高斯光进行sinc函数分束的二值化相位调制,所述相位调制模块的调制区域的调制相位为π,非调制区域的调制相位为0;
其中,所述调制区域包括边长为a和b的矩形,以及边长为b的正方形,a=2w,b=w,w为入射光斑大小;
相位调制模块中对应调制相位为π处的刻蚀深度为:
其中,λ为高斯光的波长,n为衍射光学元件的折射率。
2.一种生成聚焦平顶光斑光束的系统,其特征在于,包括:
激光光源,用于产生激光照射衍射光学元件,所述激光为高斯光;
所述衍射光学元件,用于对所述高斯光进行sinc函数分束的二值化相位调制;
聚焦镜,用于经过所述相位调制的激光进行聚焦;
其中,所述衍射光学元件的调制区域的调制相位为π,非调制区域的调制相位为0;所述调制区域包括边长为a和b的矩形,以及边长为b的正方形,a=2w,b=w,w为入射光斑大小;
衍射光学元件中相位调制模块中对应调制相位为π处的刻蚀深度为:
其中,λ为所述高斯光的波长,n为所述衍射光学元件的折射率。
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