[发明专利]一种离子交换层析介质的清洗方法

说明书

本发明属于生物技术领域，涉及一种离子交换层析介质的清洗方法。该方法用于细菌荚膜多糖纯化层析工序，阴离子交换介质DEAE清洗，使层析介质较好的再生与恢复，提高了层析的效率，延长了层析介质使用寿命，降低使用成本。

技术领域

本发明属于生物技术领域，涉及一种离子交换层析介质的清洗方法。

背景技术

离子交换层析是以离子交换剂为固定相,以特定的含离子的溶液为流动相,利用离子交换剂对需要分离的各种多糖和蛋白质结合力的差异，而将混合物中不同物质进行分离的层析技术。离子交换层析的本质是目标物和介质功能配基之间的静电相互作用降,常规分离条件选择的依据是等电点参数。

在生物制药的分离纯化过程中，培养的物料通过层析介质分离纯化，得到符合要求的目标产品。同时，物料中的杂质也污染了层析介质。这些污染物包括：宿主的蛋白质、核酸、脂类、培养过程中的代谢产物、内毒素、杂菌以及可能的层析系统的泄漏、试剂中的杂质。这些污染物在下一次的分离纯化中将污染目标产品。所以必须去除或将其降低到安全水平。这就是层析介质的清洗过程。如果想要延长介质的使用寿命就必须使用较强烈的清洗条件清洗层析介质。例如使用氢氧化钠或优化清洗剂的条件等。

由于生物样品成分非常复杂,各种大分子及其功能基团的作用特性相差较远，特别是蛋白质大分子物质在固定相介质表面的不可逆吸附和疏水结合作用，是造成柱效显著降低、层析行为发生改变的主要原因。这种不可逆的结合用普通的淋洗方法难以除去,因而致使离子交换层析柱的再生与恢复十分困难。因而如何使层析柱得到有效再生对其分离纯化效率至关重要。

现有的清洗方法，是用氢氧化钠溶液清洗，或者用碱盐混合液清洗，这些清洗方法并不能对所有杂质都能有较好的清洗效果。因此，找到一种适合自己实验物料清洗方法可有效的提高分离纯化效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种离子交换层析介质的清洗方法。该方法用于细菌荚膜多糖纯化层析工序，阴离子交换介质DEAE清洗，使层析介质较好的再生与恢复，提高了层析的效率，延长了层析介质使用寿命，降低使用成本。

本发明所述的清洗方法，是在离子交换层析工序结束后，对介质进行清洗。

本发明所述的的清洗方法，包括以下步骤：

(1)先用氯化钠溶液清洗，再用氢氧化钠溶液清洗；或者直接用碱盐混合液清洗，

(2)用酸盐混合液清洗。

其中，步骤(1)氯化钠溶液的浓度为0.5～2.0mol/L，

其中，步骤(1)氢氧化钠溶液的浓度为0.1～2.0mol/L，

其中，步骤(1)碱盐混合液是指0.5～2.0mol/L氯化钠、0.1～2.0mol/L氢氧化钠混合溶液，

其中，步骤(2)酸盐混合液是指0.5～2.0mol/L氯化钠、0.5～2.0mol/L醋酸混合溶液。

其中，步骤(1)的氯化钠溶液清洗条件为清洗0.5～2个柱体积(CV)或与介质接触至少10～30分钟。

其中，步骤(1)的氢氧化钠溶液清洗条件为清洗1～3CV，同时满足介质接触至少0.5～2小时。

其中，步骤(1)的碱盐混合液清洗条件为清洗1～3CV，同时满足碱盐混合液与介质接触0.5～2小时。

其中，步骤(2)的清洗条件为清洗1～2CV，同时满足酸盐混合溶液与介质接触0.5～2小时。

本发明所述的清洗方法，包括如下步骤：

(1)用0.5～2.0mol/L氯化钠溶液清洗层析柱，清洗0.5～2柱体积(CV)，控制流速使氯化钠溶液与介质接触至少10～30分钟。