[发明专利]一种雷达散射截面缩减方法、系统及应用在审

专利信息
申请号: 202110036529.9 申请日: 2021-01-12
公开(公告)号: CN112882003A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 陈蕾;邹林;陈伟;张仲泰 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G01S13/02 分类号: G01S13/02;G01S7/41;H01Q3/30;H01Q21/00
代理公司: 西安长和专利代理有限公司 61227 代理人: 李霞
地址: 710071 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 雷达 散射 截面 缩减 方法 系统 应用
【权利要求书】:

1.一种雷达散射截面缩减方法,其特征在于,所述雷达散射截面缩减方法基于相位相消技术的两种相消模式;根据天线的不同需求设计不同相消模式的相消技术,使之适用于不同机制下的RCS缩减,包括传统相控阵和Van Atta阵列的RCS缩减;相位相消技术依靠传播路径的差异来消除散射场,通过特定方法,使得部分信号波之间产生相位差,辐射场得到相消缩减;其中天线单元之间相位差,可以通过控制传输线长度实现;不同长度的传输线有不同的相位,当不同单元之间的相位差到某个值,阵列天线的RCS得到最大程度的缩减。

2.如权利要求1所述的雷达散射截面缩减方法,其特征在于,所述雷达散射截面缩减方法设置了基于相位相消原理的180°相位相消和随机相位相消两种相消模式。

3.如权利要求1所述的雷达散射截面缩减方法,其特征在于,所述雷达散射截面缩减方法对于线性阵天线,通过控制单元相位来改变阵列方向图,通过控制天线单元相位对波束进行赋形,使得方向图在波束指向角产生凹陷,实现相位相消,完成了RCS的缩减,线性阵因子如下所示:

其中,k为传播常数,d为阵元间距,an为第n个单元的幅度,为第n个单元的相位;将单元设为等幅,an为定值,通过调整来改变阵因子,改变天线的波形。

本方法可同样扩展至面阵、共形阵等其他阵列排布形式。

4.如权利要求3所述的雷达散射截面缩减方法,其特征在于,所述雷达散射截面缩减方法对于指定的波束指向θm,改变的值,阵列波束会发生改变;当对进行合适取值,使方向图的增益产生凹陷,实现相位相消,完成RCS的缩减一个N元线阵;对阵列单元添加相位δ1,δ2,δ3…;根据设计要求调整单元相位,改变波束形状。

5.如权利要求4所述的雷达散射截面缩减方法,其特征在于,根据阵因子理论可知,对于N元线阵,其中N为偶数,如果选择N/2个单元增加180°相位,方向图会在波束指向角处有极大相消,即是180°相位相消技术;有多种相位设置方式,其结果不同,且有最优值。

6.如权利要求4所述的雷达散射截面缩减方法,其特征在于,对于N元线阵,考虑阵列扫描特性取对称结构,若为偶数个单元,取N/2个不同相位对称的加载在阵列上,若为奇数个单元,取N/2+1个不同相位对称的加载在阵列上;若不考虑对称结构,可取N个不同的相位加载在阵列上,加载的相位并不限于180°相位,也可以实现方向图在波束指向角处产生相消,实现RCS的缩减,这称为随机相位相消。

7.如权利要求1所述的雷达散射截面缩减方法,其特征在于,所述雷达散射截面缩减方法使用多路开关,实现180°相位相消和随机相位相消;两种相消结构通过开关连接到天线阵,天线可以进行180°相位相消,也可以进行的随机相位相消。

8.一种实施权利要求1~7任意一项所述雷达散射截面缩减方法的雷达散射截面缩减系统,其特征在于,所述雷达散射截面缩减系统包括:

相消模式选择模块,用于根据天线的不同需求设计不同相消模式的相消技术,使之适用于不同机制下的RCS缩减,包括传统相控阵和Van Atta阵列的RCS缩减;

辐射场相消缩减模块,用于实现相位相消技术主依靠传播路径的差异来消除散射场,通过特定方法,使得部分信号波之间产生相位差,辐射场得到相消缩减;天线单元之间相位差,是通过控制传输线长度来实现,不同长度的传输线有不同的相位,当不同单元之间的相位差到某个值,阵列天线的RCS可以得到最大程度的缩减。

9.一种天线雷达散射终端,其特征在于,所述天线雷达散射终端用于实现权利要求1~7任意一项所述的雷达散射截面缩减方法。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110036529.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top