[发明专利]用于工件中的缺陷检测的设备及方法

权利要求书

1.一种用于工件中的缺陷检测的设备，其包括：

至少一个光源，其用于提供照明，其中所述光源经配置以将所述照明引导到所述工件的第一面上且使所述照明透射穿过所述工件，其中穿过所述工件透射的所述照明的至少一部分在与所述第一面相对的所述工件的第二面处射出所述工件，其中所述工件的所述第一面的面积和所述第二面的面积小于所述工件的第三面的面积和第四面的面积，其中一或多个缺陷阻断照明射出所述工件的所述第二面；及

相机，其包括透镜和检测器，所述相机用于收集穿过所述工件透射的并且从所述工件的所述第二面射出的照明，其中所述相机经配置以基于穿过工件的所述第二面射出的所收集的照明以及由所述一或多个缺陷所阻断的照明来对所述工件内的一或多个缺陷成像。

2.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括：

平台，其用于移动所述工件，其中所述平台经配置以在所述工件和所述相机之间施加相对运动，以从穿过所述工件透射的并且从所述工件的所述第二面射出的所述照明中形成一或多个图像。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述相机包括透镜和检测器。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少一个光源经布置以提供波长范围的照明，其中所述工件对所述波长范围的照明是透明的。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述照明包括红外线照明。

6.根据权利要求4所述的设备，其中所述照明具有等于或大于1200nm的波长。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述相机包括线扫描传感器。

8.根据权利要求1所述的设备，其中所述工件是半导体晶片。

9.一种用于工件中的缺陷检测的设备，其包括：

至少一个光源，其用于提供照明，其中所述光源经配置以将所述照明引导到所述工件的第一侧面上且使所述照明透射穿过所述工件，其中穿过所述工件透射的所述照明的至少一部分从与所述第一側面相对的所述工件的第二側面处射出所述工件，其中一或多个缺陷阻断照明射出所述工件的所述第二面；及

相机，其用于收集穿过所述工件透射的并且从所述工件的所述第二面射出的照明，其中所述相机经配置以基于穿过工件的所述第二面射出的所收集的照明以及由所述一或多个缺陷所阻断的照明来对所述工件内的一或多个缺陷成像。

10.根据权利要求9所述的设备，其进一步包括：

平台，其用于移动所述工件，其中所述平台经配置以在所述工件和所述相机之间施加相对运动，以从穿过所述工件透射的并且从所述工件的所述第二面射出的所述照明中形成一或多个图像。

11.根据权利要求9所述的设备，其中所述相机包括透镜和检测器。

12.根据权利要求9所述的设备，其中所述至少一个光源经布置以提供波长范围的照明，其中所述工件对所述波长范围的照明是透明的。

13.根据权利要求12所述的设备，其中所述照明包括红外线照明。

14.根据权利要求12所述的设备，其中所述照明具有等于或大于1200nm的波长。

15.根据权利要求9所述的设备，其中所述相机包括线扫描传感器。

16.根据权利要求9所述的设备，其中所述工件是半导体晶片。