[发明专利]卧式光学连续磁控溅射镀膜设备

说明书

本发明涉及一种卧式光学连续磁控溅射镀膜设备，包括进片室、进片锁定室、若干真空镀膜室、出片锁定室以及出片室；相邻两真空镀膜室之间设有第一真空过渡室，且第一真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的两真空镀膜室内的真空度之间。由于第一真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的两真空镀膜室内的真空度之间，因此待加工件从一个真空镀膜室移动至另一个真空镀膜室的时候，由于第一真空过渡室的缓冲作用，不会使待加工件直接由一个低真空度的环境中跳跃到高真空度的环境中，也不会使待加工件直接由一个高真空度的环境中跳跃到低真空度的环境中，而是逐渐减小或逐渐增加，使本发明的卧式光学连续磁控溅射镀膜设备镀膜更加稳定，所镀的膜也更均匀。

技术领域

本发明涉及镀膜的技术领域，尤其涉及一种卧式光学连续磁控溅射镀膜设备。

背景技术

真空镀膜是在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面形成镀膜层的一种技术。真空镀膜技术应用在众多领域，如平板显示器领域内的透明电极镀膜、家电制造领域内的塑料装饰镀膜以及建筑材料领域内的玻璃陶瓷装饰镀膜等。

相关技术中的一些镀膜设备具有多个真空镀膜室，待加工件依次通过相邻真空镀膜室时，由于各个真空镀膜室内的真空度相差较大，因此，待加工件从一个真空度环境移动至另一真空度相差较大的环境中时，会导致镀膜设备镀膜不稳定，所镀的膜均匀性太差。

发明内容

本发明的目的在于提供一种镀膜均匀、稳定的卧式光学连续磁控溅射镀膜设备。

根据本发明的一方面，提供一种卧式光学连续磁控溅射镀膜设备，所述卧式光学连续磁控溅射镀膜设备包括依照作业顺序由前至后排布的进片室、进片锁定室、若干真空镀膜室、出片锁定室以及出片室；所述进片室用于接收来自外界的待加工件，所述进片锁定室用于存储待加工件，若干所述真空镀膜室分别用于为待加工件进行镀膜且相邻两所述真空镀膜室的真空度不同，所述出片锁定室用于接收并存储经所述真空镀膜室镀膜后的镀膜工件，所述出片室用于将所述出片锁定室内的镀膜工件送出外界；

所述卧式光学连续磁控溅射镀膜设备还包括第一真空过渡室，相邻两所述真空镀膜室之间设有所述第一真空过渡室，且所述第一真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的两所述真空镀膜室内的真空度之间。

作为本发明的一个实施例，所述卧式光学连续磁控溅射镀膜设备还包括第二真空过渡室，所述进片锁定室和所述真空过渡室之间设有所述第二真空过渡室，且所述第二真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的所述真空镀膜室内的真空度和所述进片锁定室内的真空度之间。

作为本发明的一个实施例，所述卧式光学连续磁控溅射镀膜设备还包括第三真空过渡室，所述出片锁定室和所述真空过渡室之间设有所述第三真空过渡室，且所述第三真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的所述真空镀膜室内的真空度和所述出片锁定室内的真空度之间。

作为本发明的一个实施例，所述进片锁定室具有两个，且分别为第一进片锁定室和第二进片锁定室，所述第一进片锁定室和所述第二进片锁定室均可抽气以降低其室内气压。

作为本发明的一个实施例，所述卧式光学连续磁控溅射镀膜设备还包括大气预抽室，所述大气预抽室设置在所述进片室的上一工位，与所述进片室密封连接，所述大气预抽室能够将其室内的气压抽至预设值，所述预设值低于所述进片室内的气压值。

作为本发明的一个实施例，所述真空镀膜室具有三个。

作为本发明的一个实施例，三个所述真空镀膜室依次为具有中频溅射源的第一镀膜室、具有直流溅射源的第二镀膜室和具有散焦阳极层离子源的第三镀膜室。

作为本发明的一个实施例，所述卧式光学连续磁控溅射镀膜设备还包括机架和用于传输用于固定工件的夹具的夹具回传组件，所述进片室、所述进片锁定室、若干所述真空镀膜室、所述第一真空过渡室、所述出片锁定室以及所述出片室设置在所述机架上，所述夹具回传组件设置在所述机架上且位于所述真空镀膜室的下方。