[发明专利]一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法在审

专利信息
申请号: 202110046632.1 申请日: 2021-01-14
公开(公告)号: CN112596349A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 匡翠方;杨顺华;刘旭;李海峰;丁晨良;温积森;徐良 申请(专利权)人: 之江实验室;浙江大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 奚丽萍
地址: 310023 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 多点 产生 独立 控制 光子 并行 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置,其特征在于:包括按光前进方向依次设置的飞秒激光脉冲(1)、扩束器(2)、第一反射镜(3)、数字微镜阵列DMD(4)、第一凸透镜(5)、第二凸透镜(6)、第二反射镜(7)、空间光调制器SLM(8)、第三反射镜(9)、第三凸透镜(10)、第四凸透镜(11)、第四反射镜(12)、方形可调光阑(13)、微透镜阵列MLA(14)、第五凸透镜(15)、二向色镜(16)、物镜(17)、精密位移台(18)以及设置在二向色镜(16)反射端的第六凸透镜(19)、CCD(20)。

2.根据权利要求1所述的一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置,其特征在于:所述的数字微镜阵列DMD(4)用于对入射光斑进行振幅调制,具体为DMD(4)将有效像素区域等分成N×N个单元,一个单元对应一个光斑,对数字微镜阵列DMD(4)每个单元包含的m×m个微镜进行独立“开”与“关”的状态切换,独立调控各单元光斑的强度和均匀度。

3.根据权利要求2所述的一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置,其特征在于:所述的空间光调制器SLM(8)对入射光斑进行相位调制,具体为:空间光调制器SLM(8)将有效像素区域等分成N×N个单元,每个单元包含m×m个液晶面元,空间光调制器SLM(8)每个单元的各液晶面元与数字微镜阵列DMD(4)各单元的m×m个像素一一对应,通过对空间光调制器SLM(8)各单元内的m×m个液晶面元控制,独立调控各单元光斑的波前。

4.根据权利要求3所述的一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置,其特征在于:所述的第一凸透镜(5)和第二凸透镜(6)组成4F系统一,用于将DMD(4)上的光场成像到空间光调制器SLM(8),第一凸透镜(5)和第二凸透镜(6)的焦距F1和F2满足F1/F2=dD/dS,其中dD、dS分别是数字微镜阵列DMD(4)和空间光调制器SLM(8)的像素间距;调节数字微镜阵列DMD(4)和空间光调制器SLM(8)的位置和姿态,使光束通过4F系统一后,各单元光斑与空间光调制器SLM(8)上的各单元区域一一重合。

5.根据权利要求4所述的一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置,其特征在于:所述的第三凸透镜(10)和第四凸透镜(11)组成4F系统二,用于将空间光调制器SLM(8)上的光场成像到微透镜阵列MLA(14)焦平面上,第三凸透镜(10)和第四凸透镜(11)的焦距F3和F4满足F3/F4=m×dS/dM,其中dM为MLA(14)的微透镜间距;调节微透镜阵列MLA(14)的横向位置,使各单元光斑分别与微透镜阵列MLA(14)各微透镜一一对应。

6.根据权利要求5所述的一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置,其特征在于:所述的第一反射镜(3)和第二反射镜(7)分别用于调整入射到数字微镜阵列DMD(4)和空间光调制器SLM(8)的入射角,其中空间光调制器SLM(8)的入射角控制在10°以内。

7.根据权利要求6所述的一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置,其特征在于:所述的微透镜阵列MLA(14)包含N×N个微透镜,用于对入射N×N个单元光斑进行聚焦,一个单元光斑对应一个微透镜,最多可在MLA(14)焦平面产生N×N焦点阵列;通过空间光调制器SLM(8)调制各单元光斑的波前,独立控制各焦点在相应微透镜光轴焦点附近的落点位置。

8.根据权利要求7所述的一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置,其特征在于:所述的方形可调光阑(13)用于限制入射到微透镜阵列MLA(14)的光斑尺寸,该方形可调光阑(13)的口径为微透镜阵列MLA(14)有效面积的大小。

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