[发明专利]一种具有双向可逆润湿的形状记忆微图案的制备方法

权利要求书

1.一种具有双向可逆润湿的形状记忆微图案的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

步骤(1)：清洗带有微阵列图案的硅片表面，去除表面的杂质；

步骤(2)：将热致型形状记忆聚合物与刺激响应物质按照100：(1-5)的重量比混合，然后加入甲苯中，搅拌均匀，使刺激响应物质均匀地分散在热致型形状记忆聚合物基体中；

步骤(3)：将步骤(2)制备得到的混合后的溶液在10-30℃下干燥后，去除剩余的甲苯，并将得到的产物剪碎备用；

步骤(4)：在热压模具上将步骤(1)得到的硅片固定，将步骤(3)得到的干燥后的基体材料均匀铺于硅片上，在100-175℃条件下固化1-3h；

步骤(5)：在50～80℃下将固化完成的双向可逆润湿微阵列从热压模具上取出剥离，即得到具有双向可逆润湿性的形状记忆微图案。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，使用酒精和水清洗硅片表面。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述热致型形状记忆聚合物为乙烯-醋酸乙烯共聚物。

4.根据权利要求1～3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述刺激响应物质包括过氧化苯甲酰或过氧化二异丙苯的一种或两种。

5.根据权利要求1～3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，去除甲苯的方式为放置于真空干燥箱中通过加热的方式来除去甲苯。

6.权利要求1～5任一项所述的制备方法在航空航天、纺织工业、液滴存储、光学、生物医药、微电子领域的应用。

7.根据权利要求1～5任一项所述的制备方法制备得到的具有双向可逆润湿的形状记忆微图案。

8.包含权利要求7所述的具有双向可逆润湿的形状记忆微图案的微光学器件或智能胶粘剂。