[发明专利]一种降膜脱挥器及其降膜元件

权利要求书

1.一种用于熔融缩聚生产高黏物料的降膜脱挥器，包括立式塔体（20）、连接于立式塔体（20）上端的封头（3）和下端的底壳（11）、物料进口（1）、物料出口（14），塔体（20）上设有真空抽气口（21），其特征在于：封头（3）上部设有物料进口（1），封头（3）内有物料箱体（25），物料箱体（25）底板为布料板（5），塔体（20）上设有至少两个倾斜波纹板降膜元件（7），按照熔体流动方向的相邻两个降膜元件（7）间隔交错排列于立式塔体（20）对侧，布料板（5）上为塔体（20）最上部的相向的降膜元件（7）分配有布膜结构，最后一个降膜元件（7）下方在塔体（20）两侧分别设有一个倾斜向下的波纹板导流件（18），底壳（11）底部设有物料出口（14）；

相向两侧的降膜元件（7）上的波纹结构一一对应，所述降膜元件（7）为至少有两个凹槽流道（70）的倾斜波纹板结构，物料沿凹槽流道形成降膜流动。

2.如权利要求1所述的一种用于熔融缩聚生产高黏物料的降膜脱挥器，其特征在于：降膜元件（7）倾斜朝下，一端与立式塔体（20）壁面相连，另一端顶点越过塔体（20）中轴线，降膜元件（7）与其上方相连的塔体（20）壁面形成的夹角为10~80°。

3.如权利要求1所述的一种用于熔融缩聚生产高黏物料的降膜脱挥器，其特征在于：降膜元件（7）凹槽下方有相连的支撑件（8），降膜元件（7）与其相连的塔体（20）壁面和支撑件（8）形成一个锐角三角形或直角三角形结构。

4.如权利要求1所述的一种用于熔融缩聚生产高黏物料的降膜脱挥器，其特征在于：同侧相邻两个降膜元件（7）垂直间距为50~3000 mm，倾斜板式降膜元件（7）的水平方向的投影高度20~1500 mm。

5. 如权利要求1所述的一种用于熔融缩聚生产高黏物料的降膜脱挥器，其特征在于：两凹槽的间距10~500 mm，凹槽深度为5~100mm，每个降膜元件（7）上的凹槽流道（70）个数为2~100个。

6.如权利要求1所述的一种用于熔融缩聚生产高黏物料的降膜脱挥器，其特征在于：布料板（5）与封头（3）壁面相接的夹角为10~90°，布料板（5）上为下方对应的降膜元件（7）凹槽设有1~20个布膜孔（51），布膜孔（51）宽为2~50 mm，布膜孔（51）孔缝和下方降膜元件的凹槽流道（70）对应，用于物料从物料箱体（25）中进入其下方的降膜元件（7）中的凹槽，以此开始降膜流动脱挥过程。

7.如权利要求1所述的一种用于熔融缩聚生产高黏物料的降膜脱挥器，其特征在于：两侧的导流件（18）不相连，且导流件（18）上的波纹凹槽结构与降膜元件（7）一致，端部不超过降膜脱挥器中轴线。

8.如权利要求1所述的一种用于熔融缩聚生产高黏物料的降膜脱挥器，其特征在于：反应器设传热系统和保温系统，封头（3）上有封头夹套（4）、封头夹套热媒进口（2）和封头夹套热媒出口（24）；塔体（20）上有塔体夹套（19）、塔体夹套热媒进口（6）和塔体夹套热媒出口（17），底壳（11）有底壳夹套（12）、底壳热媒进口（16）和底壳热媒出口（13），底壳（11）内还设有搅拌桨（15）。

9.如权利要求3所述的一种用于熔融缩聚生产高黏物料的降膜脱挥器，其特征在于：塔体（20）上设有塔体夹套（19），所述降膜元件（7）和支撑件（8）均为空心结构，所述降膜元件（7）和支撑件（8）的空心结构彼此连通并和塔体夹套连通，形成热媒流动通道。