[发明专利]显示面板的制备方法、显示面板和显示装置

说明书

本申请公开了一种显示面板的制备方法、显示面板和显示装置，包括：首先在阵列基板上依次形成第一电极层、牺牲层及像素定义层，像素定义层具有多个开口，部分的牺牲层通过开口暴露，第一电极层包括金属层及覆盖金属层的保护层；然后利用刻蚀介质蚀刻去除通过开口暴露的部分牺牲层，其中第一保护层与刻蚀介质的作用相对于牺牲层与刻蚀介质的作用呈惰性。该显示面板的制备方法中制备的第一电极层不与用于刻蚀牺牲层的刻蚀介质反应，从而可以保护第一电极层中的金属层，防止第一电极层产生暗点导致显示不良，有助于提升产品良率，保证显示面板的显示效果。

技术领域

本申请属于显示设备技术领域，尤其涉及一种显示面板的制备方法、显示面板和显示装置。

背景技术

在HIAA(Hole In Active Area，显示区开孔)技术中，在形成阳极后在阳极上形成有用于保护阳极的牺牲层，后续工艺中需要对牺牲层进行去除，常用手段为采用湿法刻蚀工艺去除牺牲层，但是采用现有手段去除牺牲层时阳极会出现暗点，从而导致产品良率下降。

发明内容

本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法、显示面板和显示装置，该显示面板的制备方法中制备的第一电极层不与用于刻蚀牺牲层的刻蚀介质反应，从而可以保护第一电极层中的金属层，从而防止阳极产生暗点导致显示不良，有助于提升产品良率，保证显示面板的显示效果。

本申请实施例一方面提供了一种显示面板的制备方法，包括：

在阵列基板上依次形成第一电极层、牺牲层及像素定义层，所述像素定义层具有多个开口，部分的牺牲层通过所述开口暴露，所述第一电极层包括金属层及覆盖所述金属层的第一保护层；

利用刻蚀介质蚀刻去除通过所述开口暴露的部分牺牲层，其中所述第一保护层与所述刻蚀介质的作用相对于所述牺牲层与所述刻蚀介质的作用呈惰性。

优选地，还包括形成于所述金属层朝向所述阵列基板一侧的第二保护层，所述第一保护层和所述第二保护层均为金属氧化物导电层。

优选地，所述第一保护层的材质为氧化铝锌，所述牺牲层的材质为氧化铟锌。

优选地，采用磁控溅射的方式形成所述第一保护层，其中用于形成所述第一保护层的靶材包含氧化锌和氧化铝。

优选地，所述靶材中还包括氧化钙或碳酸钙。

优选地，在采用磁控溅射的方式形成所述第一保护层的过程中还通入有百分之二十至百分之三十的氧气。

优选地，所述第二保护层的材质为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铝锌中的一种。

优选地，所述金属层的材质为银。

优选地，所述刻蚀介质包括硝酸、磷酸和醋酸。

本申请还提供了一种显示面板，所述显示面板包括：

阵列基板；

第一电极层，形成于所述阵列基板上，包括金属层及覆盖所述金属层的第一保护层，所述第一保护层的材质为氧化铝锌；

牺牲层，形成于所述第一电极层背离所述阵列基板的一侧，所述牺牲层具有多个开孔，部分所述第一电极层通过所述开孔暴露，所述牺牲层的材质为氧化铟锌；

像素定义层，形成于所述牺牲层背离所述第一电极层的一侧，所述像素定义层具有多个开口，所述开口与所述开孔一一对应，且每一对一一对应的所述开口与所述开孔中，所述开口靠近所述阵列基板一侧的边沿与所述开孔背离所述阵列基板一侧的边沿重合。

本申请还提供了一种显示装置，包括上述技术方案中提供的显示面板。