[发明专利]驱动基板及制作方法、显示面板在审

专利信息
申请号: 202110052271.1 申请日: 2021-01-15
公开(公告)号: CN112599478A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 顾杨 申请(专利权)人: 苏州芯聚半导体有限公司
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L33/58;H01L27/12;H01L25/13;G09F9/33
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 常伟
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 驱动 制作方法 显示 面板
【说明书】:

发明提供一种驱动基板及制作方法、显示面板,制作方法包括:提供衬底;形成遮光层于所述衬底一侧的表面上;提供掩膜版,所述掩膜版层叠于所述遮光层上方,所述掩膜版包括若干镂空区;干法蚀刻所述遮光层形成若干斜向开槽和若干第一遮光单元,每一斜向开槽与每一镂空区对应,每一第一遮光单元具有靠近所述衬底的第一侧边的倾斜侧壁;移动掩膜版,以使每一第一遮光单元靠近所述衬底的第一侧边的倾斜侧壁自对应的镂空区中露出;以及干法蚀刻所述倾斜侧壁,形成第二遮光单元;其中,所述第二遮光单元的剖面形状为正梯形结构。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种微发光二极管的驱动背板及制作方法、显示面板。

背景技术

微发光二极管(Micro LED)显示面板是一种以在一个基板上集成的高密度微小尺寸的发光二极管(LED)阵列作为显示像素来实现图像显示的显示装置,微发光二极管(Micro LED)显示面板属于自发光显示器。

Micro LED作为电流驱动的自发光单元,每个独立的发光单元都向空间中的各个方向均匀发光,在这一过程中为了避免相邻的发光单元之间的光串扰,一般会在衬底上设置黑色矩阵,黑色矩阵用以阻挡相邻的发光单元之间的光串扰。

由于Micro LED本身具有一定的高度,特别是Micro LED上方设置量子点层进行全彩显示的情况下,用于阻止光串扰的黑色矩阵需要具有一定的高度,例如大于等于10μm。目前,黑色矩阵形成的工艺一般包括光刻、丝网印刷、点胶等。

如图1所示,衬底1上的黑色矩阵2,黑色矩阵2包括开口和遮光单元,遮光单元位于相邻的发光单元之间,发光单元位于开口中,其中,遮光单元的剖面形状例如是倒梯形结构,倒梯形的长边侧远离衬底1,进而位于开口的发光单元的出射光线被遮挡,导致出光角度低的问题。

如图2所示,衬底3上的黑色矩阵4,黑色矩阵4包括开口和遮光单元,遮光单元位于相邻的发光单元之间,发光单元位于开口中,其中,遮光单元的剖面形状例如是长方形结构,长方形的直角边导致位于开口的发光单元的出光角度低的问题。

由此可知,现有的采用光刻、丝网印刷、点胶工艺制作的黑色矩阵的遮光单元往往为倒梯形结构、长方形结构,存在发光单元的出光角度低的问题。

有鉴于此,需要对现有的制作黑色矩阵的方式进行改进。

发明内容

本发明解决的问题是如何对膜层厚度较大的遮光层进行图案化获得正梯形结构的遮光单元,改善现有的遮光单元导致发光单元的出光角度低的问题

为解决上述问题,本发明技术方案提供了一种驱动基板的制作方法,其包括:

S1、提供衬底;

S2、形成遮光层于所述衬底一侧的表面上;

S3、提供掩膜版,所述掩膜版层叠于所述遮光层上方,所述掩膜版包括若干镂空区;

S4、干法蚀刻所述遮光层形成若干斜向开槽和若干第一遮光单元,每一斜向开槽与每一镂空区对应,每一第一遮光单元具有靠近所述衬底的第一侧边的倾斜侧壁;

S5、移动掩膜版,以使每一第一遮光单元靠近所述衬底的第一侧边的倾斜侧壁自对应的镂空区中露出;以及

S6、干法蚀刻所述倾斜侧壁,形成第二遮光单元;

其中,所述第二遮光单元的剖面形状为正梯形结构。

作为可选的技术方案,所述S4还包括:朝向第一方向倾斜所述衬底和所述掩膜版,干法蚀刻所述遮光层形成若干第一斜槽和若干第一遮光单元;所述S5还包括:朝向第二方向倾斜所述衬底和所述掩膜版;其中,所述第一方向和所述第二方向相交,且所述第一方向和所述第二方向形成的夹角为90-180°。

作为可选的技术方案,所述第一方向和所述第二方向镜像对称。

作为可选的技术方案,所述遮光层的膜层厚度为1μm-100μm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州芯聚半导体有限公司,未经苏州芯聚半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110052271.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top