[发明专利]显示装置在审

专利信息
申请号: 202110061739.3 申请日: 2017-02-09
公开(公告)号: CN112768476A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 刘敏钻;蔡煜生 申请(专利权)人: 群创光电股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 显示装置
【说明书】:

本发明公开一种显示装置,包括一基底、一第一晶体管、一第二晶体管以及一第一电容电极。第一晶体管设置于基底之上,并包括一第一半导体层以及一第一栅极电极。第一栅极电极位于第一半导体层之上。第二晶体管设置于基底之上,并包括一第二半导体层。第一电容电极位于第一半导体层之上。第一电容电极在基底的垂直方向上和第一栅极电极重叠。第一半导体层包括硅半导体层。第二半导体层包括氧化半导体层。

本申请是中国发明专利申请(申请号:201710071011.2,申请日:2017年02月09日,发明名称:显示装置)的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种半导体结构,特别是涉及一种显示装置的半导体结构。

背景技术

由于平面显示器具有体积薄、重量轻及低幅射的优点,近年来逐渐被广泛使用。显示器中的薄膜晶体管结构,可以是具有高载流子移动率特性的多晶硅薄膜晶体管,或者是具有低漏电特性的金属氧化物薄膜晶体管,目前的显示器仍无法结合该两种晶体管,亦无相关的电路设计。

发明内容

本发明提供一种显示装置,包括一基底、一第一晶体管、一第二晶体管以及一第一电容电极。第一晶体管设置于基底之上,并包括一第一半导体层以及一第一栅极电极。第一栅极电极位于第一半导体层之上。第二晶体管设置于基底之上,并包括一第二半导体层。第一电容电极位于第一半导体层之上。第一电容电极在基底的垂直方向上和第一栅极电极重叠。第一半导体层包括硅半导体层。第二半导体层包括氧化半导体层。

本发明另提供一种显示装置,包括一基底、一第一晶体管、一第二晶体管以及一第一电容电极。第一晶体管设置于基底之上,并包括一第一半导体层、一第一栅极电极以及一第一栅极绝缘层。第一半导体层包括氧化半导体层。第一栅极电极和第一半导体层重叠。第一栅极绝缘层设置于第一半导体层与第一栅极电极之间。第二晶体管设置于基底之上,并包括一第二半导体层以及一第二栅极电极。第二半导体层包括硅半导体层。第二栅极电极和第二半导体层重叠。第一电容电极在基底的垂直方向上和第二栅极电极重叠。第一栅极绝缘层位于第一电容电极之上。

为让本发明的特征和优点能更明显易懂,下文特举出优选实施例,并配合所附的附图,作详细说明如下:

附图说明

图1为本发明的显示装置的示意图;

图2A为本发明的像素的一可能实施例的示意图;

图2B为本发明的像素的另一可能实施例的示意图;

图2C为本发明的像素的另一可能实施例的示意图;

图2D为本发明的像素的另一示意图;

图3A为本发明的像素的另一可能实施例的示意图;

图3B为本发明的像素的另一可能实施例的示意图;

图3C为本发明的像素的另一可能实施例的示意图;

图3D为本发明的像素的另一可能实施例的示意图;

图4A为本发明的像素的半导体结构示意图;

图4B为本发明的像素的另一半导体结构示意图;

图4C为本发明的像素的另一半导体结构示意图;

图4D为本发明的像素的另一半导体结构示意图;

图5为本发明的像素的另一半导体结构示意图;

图6为本发明的像素的另一半导体结构示意图;

图7为本发明的像素的另一半导体结构示意图;

图8A为本发明的像素的另一半导体结构示意图;

图8B为本发明的像素的另一半导体结构示意图;

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