[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板有效

专利信息
申请号: 202110069149.5 申请日: 2021-01-19
公开(公告)号: CN112768477B 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 翟玉浩 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 官建红
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【说明书】:

发明实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板,所述阵列基板包括感光晶体管和开关晶体管,感光晶体管的有源层包括第一光敏有源层,开关晶体管的有源层包括第二光敏有源层,第二光敏有源层的厚度小于第一光敏有源层的厚度;或,感光晶体管的有源层包括第一光敏有源层,开关晶体管的有源层不设置第二光敏有源层。相比于现有技术,本发明实施例提供的阵列基板,无需在开关晶体管的有源层区域上方制备遮光层来改善开关晶体管的开关性能,减少了一道光罩制程,且减少了一层遮光层,从而减少了阵列基板及显示面板的制备成本。

技术领域

本发明涉及显示领域,具体涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

背景技术

低成本和低功耗的光电探测器已经广泛应用于智能产品中,由氧化物半导体层和光敏材料层构成的晶体管通常作为光电传感器的控制器件。

在内嵌式触控面板中,作为光电传感器的控制器件的开关晶体管和感光晶体管是同时制备的,而光敏材料由于对光敏感,光照时将会引起开关晶体管的电性改变,因此,往往需要在开关晶体管的有源层上方制备一层遮光层来防止光照对开关晶体管电学性能的影响,这样就造成了光罩和制备成本的增加。

因此,现有内嵌式触控显示面板存在光罩制程多和制备成本高的问题,需要解决。

发明内容

本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板,可以缓解现有技术中内嵌式触控显示面板存在光罩制程多和成本高的问题。

本发明实施例提供一种阵列基板,包括感光晶体管和开关晶体管,所述感光晶体管的有源层包括第一光敏有源层,所述开关晶体管的有源层包括第二光敏有源层,所述第二光敏有源层的厚度小于所述第一光敏有源层的厚度;或,所述感光晶体管的有源层包括所述第一光敏有源层,所述开关晶体管的有源层不设置所述第二光敏有源层。

可选的,在本发明的一些实施例中,所述感光晶体管的有源层还包括第一电性有源层,所述开关晶体管的有源层包括第二电性有源层。

可选的,在本发明的一些实施例中,所述第一电性有源层与所述第二电性有源层同层设置,所述第一光敏有源层与所述第二光敏有源层同层设置。

可选的,在本发明的一些实施例中,所述第一光敏有源层与所述第一电性有源层上下层叠设置,所述第二光敏有源层与所述第二电性有源层上下层叠设置。

可选的,在本发明的一些实施例中,所述第一光敏有源层与所述第一电性有源层相互重叠。

可选的,在本发明的一些实施例中,所述第二光敏有源层的厚度范围为0-10纳米,所述第一光敏有源层的厚度范围为40-100纳米。

可选的,在本发明的一些实施例中,所述感光晶体管的有源层的长宽比大于所述开关晶体管的有源层的长宽比。

可选的,在本发明的一些实施例中,所述感光晶体管的有源层的长宽比大于5:4。

相应的,本发明实施例提供一种显示面板,包括本发明实施例提供的任意一种阵列基板。

相应的,本发明实施例还提供一种阵列基板的制造方法,所述阵列基板的制造方法包括以下步骤:

在栅极绝缘层上先后制备整层的电性有源薄膜和光敏有源薄膜;

在所述光敏有源薄膜上制备第一光阻和第二光阻,其中,所述第一光阻的厚度大于所述第二光阻的厚度;

图案化处理所述光敏有源薄膜和所述电性有源薄膜,去除所述光敏有源薄膜和所述电性有源薄膜被所述第一光阻和所述第二光阻覆盖区域以外的部位,形成被所述第一光阻覆盖的第一光敏有源层和第一电性有源层,形成被所述第二光阻覆盖的第二光敏有源层和第二电性有源层;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110069149.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top