[发明专利]一种实现辐射制冷的二氧化硅热超材料及其应用有效

专利信息
申请号: 202110070272.9 申请日: 2021-01-19
公开(公告)号: CN112833582B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 范春珍;殷怀远 申请(专利权)人: 郑州大学
主分类号: F25B23/00 分类号: F25B23/00
代理公司: 郑州豫开专利代理事务所(普通合伙) 41131 代理人: 张智伟
地址: 450001 河南省郑州*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 实现 辐射 制冷 二氧化硅 材料 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种实现辐射制冷的二氧化硅热超材料,其特征在于:所述二氧化硅热超材料由反射层及位于其上的吸收层组成,所述吸收层由基底层和图案层组成;所述反射层由从上到下交替排列的二氧化钛层和氟化镁层组成;所述基底层由从上到下依次排列的二氧化硅层、氮化硅层和二氧化钛层组成,所述图案层由在二氧化硅层上表面上呈周期性排布的二氧化硅结构单元组成,二氧化硅层的上表面记为x-y平面,二氧化硅结构单元在二氧化硅层上表面上沿x轴、y轴的排列周期分别记为Px、Py,Px=Py=8±0.1 μm;

所述二氧化硅结构单元包括两个大小相等的二氧化硅等腰直角三棱柱,这两个二氧化硅等腰直角三棱柱关于二氧化硅结构单元的几何中心对称,并且两个二氧化硅等腰直角三棱柱的上/下底面直角所在顶点、二氧化硅结构单元的几何中心在二氧化硅层上表面上的正投影点在同一条直线上;二氧化硅等腰直角三棱柱的上/下底面等腰直角三角形的高d1=3±0.1 μm,两个二氧化硅等腰直角三棱柱之间的距离d2=1±0.1 μm,二氧化硅等腰直角三棱柱的高t1=3±0.1 μm;

基底层中,二氧化硅层厚t2=7±0.1 μm,氮化硅层厚t3=6±0.1 μm,二氧化钛层厚t4=6±0.1μm;以每层的厚度计,所述反射层从上到下由二氧化钛层70±0.1 nm、氟化镁层100±0.1 nm、二氧化钛层120±0.1 nm、氟化镁层110±0.1 nm、二氧化钛层100±0.1 nm、氟化镁层72±0.1 nm、二氧化钛层53±0.1 nm、氟化镁层100±0.1 nm、二氧化钛层75±0.1 nm组成。

2.如权利要求1所述的实现辐射制冷的二氧化硅热超材料在建筑材料、被动制冷器件上的应用。

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