[发明专利]一种反射式超表面能流分布调控组件及其构建方法有效
申请号: | 202110072583.9 | 申请日: | 2021-01-20 |
公开(公告)号: | CN112859205B | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
发明(设计)人: | 程鑫彬;何涛;王占山 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | G02B1/00 | 分类号: | G02B1/00;G02B5/00 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 赵继明 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 表面 分布 调控 组件 及其 构建 方法 | ||
1.一种反射式超表面能流分布调控组件,其特征在于,包括自下而上依次设置的基板、多层膜、间隔层和超表面结构,所述超表面结构采用高折射率材料、为柱子宽度渐变的结构,所述间隔层采用低折射率材料,间隔层的厚度大于间隔层介质中四分之一波长,所述多层膜的结构为Sub|(HL)mABCDE|S;其中,(HL)m为高反射率单元,H、A、C和E为多层膜中高折射率材料的厚度,L、B和D为多层膜中低折射率材料的厚度,入射介质S为所述间隔层;
通过根据所述间隔层和超表面结构,获取最佳反射相位,从而调整所述A、B、C、D和E的厚度值,实现所述反射式超表面的能流分布调控;
所述获取最佳反射相位具体为:将间隔层设置在超表面结构下方,利用超表面结构的散射系数和间隔层的参数,在间隔层下界面对传输波保持高反射率以避免透射损耗的同时,扫描反射相位对间隔层中的传输波和超表面中的布洛赫波的影响,最终得到反射相位对实际能流分布的影响,通过和预设的目标能流分布的对比获得所述最佳反射相位。
2.根据权利要求1所述的一种反射式超表面能流分布调控组件,其特征在于,所述超表面结构包括多个超表面单元结构,所述超表面单元结构的周期和个数的计算表达式为:
Np=λ/sinθ1
式中,N为超表面单元结构的个数,p为超表面单元结构的周期,λ为波长,θ1为出射光的角度,所述出射光的角度的取值范围在30度至90度范围以内。
3.根据权利要求1所述的一种反射式超表面能流分布调控组件,其特征在于,所述高折射率材料为Si或TiO2。
4.根据权利要求1所述的一种反射式超表面能流分布调控组件,其特征在于,所述低折射率材料为SiO2。
5.根据权利要求1所述的一种反射式超表面能流分布调控组件,其特征在于,所述高反射率和反射相位对应于传输波的入射角,所述传输波的入射角的选择表达式为:
θ2=arcsin(mλ/nP),m=0,±1
式中,θ2为传输波的入射角,λ为工作波长,n为间隔层的折射率,P为超表面结构的周期,m为传输波的阶数。
6.根据权利要求1所述的一种反射式超表面能流分布调控组件,其特征在于,所述基板为熔融石英板或K9玻璃板。
7.根据权利要求1所述的一种反射式超表面能流分布调控组件,其特征在于,所述超表面结构、间隔层、多层膜和基板组成的整体组件具有三个反射通道,所述整体组件表面处的能流分布形式为:
式中,Sa(x)为整体组件表面处能流,为能流分布一阶振荡的振幅,N为超表面单元结构的个数,p为超表面单元结构的周期,为能流分布一阶振荡的相移,为能流分布二阶振荡的振幅,为能流分布二阶振荡的相移;
通过控制Sa(x)的各个系数,调节不同反射通道的比例。
8.一种如权利要求1所述的一种反射式超表面能流分布调控组件的构建方法,其特征在于,包括以下步骤:
构建宽度渐变的反射式超表面结构:利用高折射率材料构成超表面结构,该超表面结构为柱子宽度渐变的结构;
构建间隔层:间隔层使用低折射率材料,间隔层的厚度大于间隔层介质中四分之一波长;
获取最佳反射相位:将间隔层设置在超表面结构下方,利用超表面结构的散射系数和间隔层的参数,在间隔层下界面对传输波保持高反射率以避免透射损耗的同时,扫描反射相位对间隔层中的传输波和超表面中的布洛赫波的影响,最终得到反射相位对实际能流分布的影响,通过和预设的目标能流分布的对比获得最佳反射相位;
构建多层膜:多层膜的结构为Sub|(HL)mABCDE|S;其中,(HL)m为高反射率单元,H、A、C和E为多层膜中高折射率材料的厚度,L、B和D为多层膜中低折射率材料的厚度,入射介质S为所述间隔层;根据所述最佳反射相位调整A、B、C、D和E的厚度值,所述多层膜设置在间隔层下方。
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