[发明专利]光学测量装置以及光学测量方法在审

专利信息
申请号: 202110073473.4 申请日: 2021-01-20
公开(公告)号: CN113137929A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 田口都一;入江优 申请(专利权)人: 大塚电子株式会社
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 金辉;崔炳哲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 测量 装置 以及 测量方法
【权利要求书】:

1.一种光学测量装置,其中,

包括:

照射光学系统,向测量对象物照射包含多个波长的照射光;

受光光学系统,接收测量光,所述测量光为通过向所述测量对象物照射所述照射光进而从所述测量对象物产生的透射光或反射光;以及

偏振板,

所述偏振板构成为能够位于所述照射光学系统以及所述受光光学系统中的任意一方。

2.如权利要求1所述的光学测量装置,其中,

所述偏振板仅被固定地设于所述照射光学系统以及所述受光光学系统中的任意一方。

3.如权利要求1或2所述的光学测量装置,其中,

所述光学测量装置还包括调整部,所述调整部调整所述偏振板的吸收轴在与所述照射光的光路或所述测量光的光路交叉的平面上的方向。

4.一种光学测量方法,使用包括照射光学系统和受光光学系统的光学测量装置,其中,

包括:

使用所述照射光学系统向测量对象物照射包含多个波长的照射光步骤;以及

使用所述受光光学系统接收测量光的步骤,其中,所述测量光为通过向所述测量对象物照射所述照射光进而从所述测量对象物产生的透射光或反射光,

在将所述照射光向所述测量对象物照射的步骤、或者接收所述测量光的步骤中,将透射过偏振板的所述照射光向所述测量对象物照射、或者接收透射过偏振板的所述测量光。

5.如权利要求4所述的光学测量方法,其中,

所述偏振板仅被固定地设于所述照射光学系统以及所述受光光学系统中的任意一方。

6.如权利要求4或5所述的光学测量方法,其中,

所述光学测量方法还包括如下步骤:

基于所述偏振板的吸收轴在与所述照射光或所述测量光的光路交叉的平面上的方向不同的情况下的各所述测量光的受光结果,来计算所述测量对象物的膜厚的步骤。

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