[发明专利]记录装置在审

专利信息
申请号: 202110074853.X 申请日: 2021-01-20
公开(公告)号: CN113147181A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 村田充;中野洋介;竹内敦彦;大谷胜彦 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 权太白
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 装置
【权利要求书】:

1.一种记录装置,具备:

记录头,其将液体作为液滴进行喷出;

滑架,其搭载有所述记录头;

移动单元,其使所述滑架沿着导向轴进行往复移动;以及

控制基板,其安装有半导体元件,

在所述滑架位于所述导向轴的一端的状态下,所述控制基板被配置在所述滑架的下方处。

2.如权利要求1所述的记录装置,其中,

在所述导向轴的下方处且沿着与所述导向轴的延伸方向交叉的方向而配置有板状的侧架,

所述控制基板被安装在所述侧架的面上。

3.如权利要求1或权利要求2所述的记录装置,其中,

除了所述控制基板之外,还具备其他的控制基板,

所述其他的控制基板在所述滑架位于所述导向轴的另一端的状态下被配置在所述滑架的下方处。

4.如权利要求3所述的记录装置,其中,

具备电源基板,该电源基板安装有电源用元件,

所述控制基板与所述其他的控制基板之间进行配线,

所述电源基板被配线至所述控制基板和所述其他的控制基板中的一个。

5.一种记录装置,具备:

记录头,其将液体作为液滴进行喷出;

滑架,其搭载有所述记录头;

移动单元,其使所述滑架沿着导向轴进行往复移动;

控制基板,其安装有半导体元件;以及

侧架,其为板状且沿着与所述导向轴的延伸方向交叉的方向进行配置,

所述控制基板在所述滑架的移动范围内被安装在所述侧架的面上。

6.如权利要求5所述的记录装置,其中,

具备维护单元,该维护单元对所述记录头实施维护,

所述侧架被配置在与所述维护单元相比更靠所述记录装置的外侧处。

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