[发明专利]一种网状射频PECVD电极结构及其应用方法在审
| 申请号： | 202110081117.7 | 申请日： | 2021-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN112575319A | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 张超雄;王铭;汪涛;凌俊;郭小勇;易治凯 | 申请（专利权）人： | 江苏爱康能源研究院有限公司;浙江爱康光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/509 | 分类号： | C23C16/509;C23C16/24 |
| 代理公司： | 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309 | 代理人： | 张晓斐 |
| 地址： | 215600 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 网状 射频 pecvd 电极 结构 及其 应用 方法 | ||
1.一种网状射频PECVD电极结构，其特征在于：它包括网状电极板（1）本体，所述网状电极板（1）采用9*12的网框结构，在横向每隔四个网格设置一个RF功率馈入点（2），纵向每隔三个网格设置一个RF功率馈入点（2）。
2.根据权利要求1所述的一种网状射频PECVD电极结构，其特征在于：所述网状电极板（1）的长度为1.95m，宽度为1.60m。
3.根据权利要求1所述的一种网状射频PECVD电极结构，其特征在于：所述网状电极板（1）的内网框直径为5cm，外网框直径为7cm。
4.一种权利要求1所述的网状射频PECVD电极结构的应用方法，其特征在于，它包括以下内容：
S1、对尺寸为156.75mm的N型单晶硅片进行制绒、清洗处理；
S2、使用板式射频等离子增强化学气相沉积法进行非晶硅沉积；
S3、使用网状电极板（1）,沉积时间3min；所述网状电极板（1）采用9*12的网框结构，在横向每隔四个网格设置一个RF功率馈入点（2），纵向每隔三个网格设置一个RF功率馈入点（2）；
S4、使用椭偏仪对沉积的非晶硅膜厚进行测量。
5.根据权利要求4所述的一种网状射频PECVD电极结构的应用方法，其特征在于：所述网状电极板（1）长度为1.95m，宽度为1.60m，内网框直径为5cm，外网框直径为7cm。
6.根据权利要求4所述的一种网状射频PECVD电极结构的应用方法，其特征在于：所述网状电极板（1）设置在工艺腔（3）内，每个RF功率馈入点（2）分别接入RF电源，网状电极板（1）下方设有气体分布系统（5），气体分布系统（5）下方设有下极板（8），下极板（8）上设有石墨载板（7），气体分布系统（5）连接气体进入口（6），所述工艺腔（3）底部设有气体排出口（9）。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏爱康能源研究院有限公司;浙江爱康光电科技有限公司，未经江苏爱康能源研究院有限公司;浙江爱康光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110081117.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有定位功能的机器人
- 下一篇：一种具有蓄水功能的电动自行车雨棚装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
