[发明专利]一种负压防渗净化系统

说明书

本发明提供了一种负压防渗净化系统，包括弧形垂直防渗屏障、降水井群、动力件、集液池和水位监测井，所述弧形垂直防渗屏障竖直设置在污染羽的下游，且其弧形弯曲方向朝向污染羽区域，所述降水井群包括多个间隔设置的降水井，各降水井均设置在弧形垂直防渗屏障靠近污染羽的一侧，且沿弧形垂直防渗屏障的弧长方向分布，所述集液池设置在污染羽的上游且通过管道与各降水井连接，所述动力件设置在管道上，所述水位监测井设置在弧形垂直防渗屏障远离污染羽的一侧，且与动力件通过电路连接。本发明采用负压抽水诱导主动净化，实现了污染的本质净化与环境安全，解决现有单一使用垂直防渗屏障技术存在的问题。

技术领域

本发明涉及污染场地地下水污染修复防治技术领域，具体涉及一种负压防渗净化系统。

背景技术

目前，在渣场土壤或地下水污染修复技术中，垂直防渗屏障技术是常用的手段之一。垂直防渗屏障技术一般是在地下水或土壤污染羽的下游，或整个渣场的四周，利用防水混凝土建立垂直的阻隔体，阻隔体的底端一般要求深入地下不透水层5～10m，而顶端高出地表。阻隔体能够堵塞地下水污染羽流向，将污染区域在水平方向进行封闭隔离，以防止污染物外泄。然而，单一使用垂直防渗屏障技术存在以下不足：

(1)垂直防渗屏障技术只是物理上隔绝了污染物外泄途径，未对污染物治理清除，污染物长期存在，始终对环境保护造成污染隐患；

(2)垂直防渗屏障技术往往会在屏障边界处汇集大量高污染地下水，造成边界处水压过大，在垂直防渗屏障因自身老化或外部震动产生裂缝的状态下造成系统失效，使得污染羽大量外泄，引发环境污染。

综上所述，急需一种负压防渗净化系统以解决现有单一使用垂直防渗屏障技术存在的未对污染物治理清除和系统失效引发环境污染的问题。

发明内容

本发明目的在于提供一种负压防渗净化系统，具体技术方案如下：

一种负压防渗净化系统，包括弧形垂直防渗屏障、降水井群、动力件、集液池和水位监测井，所述弧形垂直防渗屏障竖直设置在污染羽的下游，且其弧形弯曲方向朝向污染羽区域，所述降水井群包括多个间隔设置的降水井，各降水井均设置在弧形垂直防渗屏障靠近污染羽的一侧，且沿弧形垂直防渗屏障的弧长方向分布，所述集液池设置在污染羽的上游且通过管道与各降水井连接，所述动力件设置在管道上并用于将降水井内的地下污水通过管道输送至集液池内，所述水位监测井设置在弧形垂直防渗屏障远离污染羽的一侧，且与动力件通过电路连接。

优选的，所述负压防渗净化系统，还包括设置在各所述降水井内部的套管，所述套管的长度与降水井的长度等长，在套管的侧壁上设有多个孔结构，在降水井的井壁与套管的侧壁之间设有夹层，所述夹层包括上、下设置的透水层和阻水层，所述透水层的材质为砾砂，所述阻水层的材质为防水混凝土，所述阻水层的长度为10-15m，各降水井内的管道设置在套管内；

各所述降水井的顶部与地表齐平；

污染羽下方存在相对不透水层，当污染羽与相对不透水层之间的距离不超过20m时，各所述降水井的底部低于相对不透水层5-8m；

当污染羽与相对不透水层之间的距离超过20m时，各所述降水井的底部至少低于污染羽的底部20m。

优选的，各所述降水井的中心位置与弧形垂直防渗屏障表面间的最短直线距离为10-20m，相邻所述降水井的中心位置间的间距为20-50m。

优选的，各所述降水井的内径为0.8-1.5m。

优选的，所述弧形垂直防渗屏障的底部低于相对不透水层3-7m，而顶部高于地表0.5-1.0m；

在同一水平面上，所述弧形垂直防渗屏障所在圆的圆心与污染羽的中心重合。

优选的，所述弧形垂直防渗屏障的材质为低渗透性防渗材质，具体包括水泥灌浆体、黏土和膨润土中的至少一种。