[发明专利]一种适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体及其制备方法在审
| 申请号： | 202110084237.2 | 申请日： | 2021-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN112692275A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 朱德智;刘是文;郑振兴;刘一雄;陈维平;李小强 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | B22F1/00 | 分类号： | B22F1/00;B22F9/04;C22C30/00;C22C30/02;B33Y70/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 何淑珍;江裕强 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 适合 dp 打印 技术 密度 双相高熵 合金粉 及其 制备 方法 | ||
1.一种适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体，其特征在于，按照摩尔比来计，包括：
2.根据权利要求1所述的适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体，其特征在于，该低密度双相高熵合金粉体具有微观尺度的双相结构；所述双相结构为FCC/BCC或FCC/HCP。
3.根据权利要求1所述的适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体，其特征在于，该低密度双相高熵合金粉体的密度为3.5-5.43g/cm3。
4.根据权利要求1所述的适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体，其特征在于，该低密度双相高熵合金粉体的粒度为10-100μm。
5.一种制备权利要求1-4任一项所述的适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体的方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)称取Al、Ti、V、Cr、Mg、Ni、Cu、Si、B粉末，混合均匀，得到混合粉末；
(2)将步骤(1)所述混合粉末进行球磨处理，得到合金化的高熵合金粉末；
(3)在真空条件下将步骤(2)所述合金化的高熵合金粉末进行筛分，取粒度为10-100μm粉体，得到所述适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体。
6.根据权利要求5所述的适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述混合的时间为2-16h；所述混合是在氩气气氛下进行的。
7.根据权利要求5所述的适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述球磨处理的时间为8-40h；所述球磨处理的方式为间歇式球磨，每球磨15-45min停机冷却2-5min，再次启动时反向运转，往复循环直至预设球磨时间。
8.根据权利要求5所述的适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述球磨处理的温度为0-18℃。
9.根据权利要求5所述的适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述球磨处理是在惰性气氛下进行的。
10.根据权利要求7-9所述的适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述球磨处理的转速为120-480r/min，球磨处理的球料比为4:1-10:1。
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