[发明专利]一种基于多通道旋转阀的变压吸附工艺

说明书

本发明涉及一种基于多通道旋转阀的变压吸附工艺，包括吸附机构、驱动机构、缓冲机构，控制装置：吸附机构内填充设置有吸附填料，并设置有多组，用以对产品气进行吸附；驱动机构设置于多组吸附机构的中央，并与吸附机构的上、下两端分别相连通，用以使吸附塔依次完成吸附工序、均升/均降工序、解析工序；缓冲机构用以分别对产品气、成品气、解析气进行存储；控制装置包括可编程逻辑控制器，可编程逻辑控制器电气连接设置有变频器。本发明的一种基于多通道旋转阀的变压吸附工艺，集成度高，较少设备的潜在故障点隐患，占用面积少。

技术领域

本发明涉及工业气高压提纯技术领域，特别涉及一种基于多通道旋转阀的变压吸附工艺。

背景技术

工业气体，是用于各种工业制造的特殊带压气体，为了提高存储、运输方便性，一般压缩为液态，在蒸发器中升华为气态，并应用于生产需要中。工业气体的种类繁多，包括：惰性气，可燃气、反应气等。

其中，重要的工业气在生产、运输、蒸发的过程中，会含有其他杂质。目前，常规的工业气带压/高压提纯的方式是吸附工艺。在此工艺下的吸附设备为多吸附塔间歇进行吸附，并通过管路以及单向阀门进行逐一吸附，此方式存在以下不足之处：

1、吸附设备的管路、阀门数量多，因此，吸附过程中故障点多；

2、吸附设备并排安装，占地面积大。

发明内容

为了解决背景技术中存在的技术问题，本发明提供一种基于多通道旋转阀的变压吸附工艺，集成度高，较少设备的潜在故障点隐患，占用面积少。

本发明解决所采用的技术方案是：

一种基于多通道旋转阀的变压吸附工艺，包括吸附机构、驱动机构、缓冲机构，控制装置：

所述吸附机构内填充设置有吸附填料，并设置有多组，用以对产品气进行吸附；

所述驱动机构设置于多组吸附机构的中央，并与吸附机构的上、下两端分别相连通，用以使吸附塔依次完成吸附工序、均升/均降工序、解析工序；

所述缓冲机构用以分别对产品气、成品气、解析气进行存储；

所述控制装置包括可编程逻辑控制器，所述可编程逻辑控制器电气连接设置有变频器。

进一步的，所述吸附机构包括吸附塔，所述吸附塔上、下两端分别连通设置有顶口、底口；

吸附塔内设置有多层透气隔板，将吸附塔内不分隔为多层，吸附塔内由下至上依次放置的吸附填料为：氧化铝、二氧化硅、活性炭、分子筛。

进一步的，所述驱动机构包括安装座，所述安装座上固定安装设置有旋转阀，所述旋转阀包括框架式安装架，所述安装架的上、下两端分别安装固定设置有上阀、下阀，所述上阀、下阀之间设置有与变频器的输出端电气连接的驱动电机，所述驱动电机的旋转轴上设置有变速器，所述变速器的输出转轴分别与上阀、下阀的阀杆同轴并固定连接；

下阀连通设置有分别与多个吸附塔上所设底口相连通的下连管，以及设置于下阀中央的下总管，所述下连管以下总管为中心圆形阵列设置多根；

上阀连通设置有分别与多个吸附塔上所设的顶口相连通的上连管，以及设置于上阀中央的上总管，所述上连管以上总管为中心圆形阵列设置多根。

进一步的，所述缓冲机构包括并列设置的成品气缓冲罐、产品气缓冲罐、解析气缓冲罐：

所述成品气缓冲罐上连通设置有与上总管相连通的成品气口；

所述产品气缓冲罐、解析气缓冲罐上分别连通设置有产品气口、解析气口，所述产品气口、解析气口之间连通设置有三通阀。

进一步的，所述三通阀设置为“L”型自控三通阀，并与可编程逻辑控制器电气连接。