[发明专利]一种高分辨率光刻胶在审

专利信息
申请号: 202110089845.2 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN112925166A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 齐国强;顾大公;岳力挽;李珊珊;马潇;毛智彪;许从应 申请(专利权)人: 宁波南大光电材料有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;C07C381/12;C07C303/32;C07C309/17;C07C67/08;C07C69/60;C08F220/28;C08F220/18
代理公司: 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 代理人: 左光明
地址: 315800 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 高分辨率 光刻
【权利要求书】:

1.一种高分辨率光刻胶,其特征在于,包括以下原料:0.1-10重量组分的光致酸产生剂、10-30重量组分的成膜树脂、0.1-5重量组分的带酯键的酸扩散抑制剂以及55-89.8重量组分的有机溶剂A;

其中,所述光致酸产生剂为含双酯结构的光致酸产生剂,具体结构通式如下:

其中,R1、R2为氢原子数1~40且碳原子数为1~20的烷基、芳基或含硫/氧杂原子的取代基中的一种或多种,Q+为硫鎓盐阳离子或碘鎓盐阳离子;

所述酸扩散抑制剂为带酯键的酸扩散抑制剂,其分子量为100-30000g/mol,具体结构通式为:

其中,R3、R4为氢原子数1~40且碳原子数为1~20的烷基、芳基或含硫/氧/氮杂原子的取代基中的一种或多种,na为含有个酯键的、且碳原子数为1~20的碳链。

2.根据权利要求1所述的高分辨率光刻胶,其特征在于,所述含双酯结构的光致酸产生剂的制备方法为:

S1、将马来酸酐溶解于有机溶剂B后,加入醇类有机化合物以及催化剂,搅拌均匀后升温进行酯化反应,得到丁二酸酯类化合物;

S2、将所述丁二酸酯类化合物与亚硫酸盐在水溶液中混合均匀后升温进行反应,得到双酯基磺酸盐;

S3、将所述双酯基磺酸盐与含有硫鎓盐阳离子或碘鎓盐阳离子的水溶液中配合生成所述含双酯结构的光致酸产生剂。

3.根据权利要求2所述的高分辨率光刻胶,其特征在于,所述有机溶剂B为甲苯、二氯乙烷或4-二甲氨基吡啶中的一种或多种。

4.根据权利要求2所述的高分辨率光刻胶,其特征在于,所述催化剂为浓硫酸、对甲苯磺酸中的一种或多种。

5.根据权利要求2所述的高分辨率光刻胶,其特征在于,所述醇类有机化合物为饱和醇类有机化合物。

6.根据权利要求2所述的高分辨率光刻胶,其特征在于,S1中酯化反应的温度为50-110℃、S2中反应的温度50-110℃。

7.根据权利要求2所述的高分辨率光刻胶,其特征在于,所述亚硫酸盐为亚硫酸钠或亚硫酸钾。

8.根据权利要求1所述的高分辨率光刻胶,其特征在于,所述成膜树脂通过至少一种酸活性单体制备而成,所述酸活性单体的具体结构通式为:

其中,Ra为H或碳原子数为1~20的碳链;Rb为酸敏的四级碳,Rc为H或碳原子数为1~20的碳链;Rd为含极性基团的(甲基)丙烯酸酯。

9.根据权利要求8所述的高分辨率光刻胶,其特征在于,所述Rb为碳原子数在6~30之间的四级酯,其和羟基氧原子相连的碳原子的氢原子全部被其它基团取代,其结构为叔丁基酯、取代叔丁基酯、烷基取代的金刚烷酯、烷基取代的金刚烷衍生物酯、烷基取代的降冰片酯、烷基取代的降冰片衍生物酯、烷基取代的环状烷基酯、烷基取代的环状烷基衍生物酯中的一种或多种;

所述Rd为碳原子数在6~30之间且含羟基的环状、笼状或直链型含碳结构和各类内酯结构,其结构为含1个或多个独立羟基的金刚烷酯、含1个或多个独立羟基的环己酯、含1个或多个独立羟基的环戊酯、含1个或多个独立羟基的多环酯类化合物、含1个或多个独立羟基的笼状酯类化合物、丁内酯、戊内酯、取代戊内酯、己内酯、取代己内酯、含金刚烷结构的内酯、含多环结构的内酯、含笼状结构的内酯中的一种或多种。

10.根据权利要求1所述的高分辨率光刻胶,其特征在于,所述有机溶剂A为甲醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、乳酸乙酯、甲基乙基酮、环己酮和甲基异丁基酮中的一种或多种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波南大光电材料有限公司,未经宁波南大光电材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110089845.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top