[发明专利]一种辛酸酰化修饰抗菌肽及其应用有效

专利信息
申请号: 202110097800.X 申请日: 2021-01-25
公开(公告)号: CN112778401B 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 马曦;谭鹏;唐琪;张钰成 申请(专利权)人: 中国农业大学
主分类号: C07K7/08 分类号: C07K7/08;A61K38/10;A61P31/10;A61P31/04;A23L33/18;A23L3/3526
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 孙怡
地址: 100193 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 辛酸 修饰 抗菌 及其 应用
【说明书】:

发明涉及基因工程及生物制剂技术领域,具体公开了一种辛酸酰化修饰抗菌肽及其应用。本发明的抗菌肽的氨基酸序列如SEQ ID NO.1所示。其模拟天然蛋白质中α‑螺旋二级结构氨基酸的排布规则,以亮氨酸和精氨酸分别提供疏水性和阳离子性,以七肽重复序列“abcdefg”为模板,将此序列重复两次,然后将序列N末端进行辛酸酰化修饰,C末端酰胺化。本发明的肽对真菌和细菌具备广谱抗菌活性,具有广泛的临床应用潜力。

技术领域

本发明涉及基因工程及生物制剂技术领域,具体地说,涉及一种辛酸酰化修饰抗菌肽及其应用。

背景技术

抗生素的滥用导致了耐药真菌和耐药细菌出现,尤其是超级真菌等,已经对多种抗生素产生了耐药性并严重威胁着人类健康。虽然酮康唑、氟康唑等传统的抗真菌药物具有一定的治疗效果,但它们更容易诱导真菌产生耐药性,并对人体产生一定的副作用。因此,迫切需要开发一种新型的低毒高效抗真菌药物。

抗菌肽几乎存在于所有的动物体内,构成了动物机体的第一道防线。通常,抗菌肽通过扰乱菌体的膜稳定性,导致菌体内容物泄露而发挥抗菌活性,抗菌肽的二级结构对生物学活性有至关重要的影响,抗菌肽在水环境中为无规则构象,当抗菌肽进入到膜环境中时,伴随着二级结构的变化菌膜发生破裂进而菌株死亡。与抗生素相比,这种物理破膜方式不易使菌体产生耐药性。因此,抗菌肽也成为理想的抗生素替代物。尽管目前有大量的抗菌肽从动物体内分离,但是天然的抗菌肽存在活性差,毒性高的缺点,尤其是对真菌的抗菌活性不足。因此,有必要进行人工肽设计研究,以解决天然抗菌肽的缺陷。

发明内容

基于天然抗菌肽所存在的缺点,发明的目的是提供一种可有效抗真菌和细菌的肽。以解决抗生素引起的真菌耐药性问题。

为了实现本发明的发明目的,本发明的技术方案如下:

一种抗菌肽,所述抗菌肽的氨基酸序列如SEQ ID NO.1所示。

二级结构对抗菌肽活性的发挥扮演着重要的作用,在所有已知二级结构中,α-螺旋结构占主导地位。七肽重复序列是α-螺旋结构的基本和简化形式,通常简写为(abcdefg)n,是以a和d位置疏水性氨基酸侧链的氢键作用稳定结构。这种重复模式对抗菌肽活性发挥及毒性的平衡具有重要作用。本发明的肽为辛酸酰化修饰的抗菌肽,其模拟天然蛋白质中α-螺旋二级结构氨基酸的排布规则,以亮氨酸和精氨酸分别提供疏水性和阳离子性,以七肽重复序列“abcdefg”为模板,将此序列重复两次,保证了充足的电荷量,然后将序列N末端进行辛酸酰化修饰,C末端酰胺化,得到本发明的抗菌肽(C8LR),其序列为C8-LRRLRRRLRRLRRR-NH2(C8-Leu Arg Arg Leu Arg Arg Arg Leu Arg Arg Leu Arg ArgArg-NH2),分子量为2157.76。C8LR电荷量为11,10个精氨酸和C端酰胺化为肽提供了充足的电荷量,保证肽能够充分的与菌膜接触。4个亮氨酸和辛酸酰化N端修饰为肽提供了足够的驱动力,保证肽能插入菌膜中破坏菌株。该方法使多肽具有强烈的抗细菌和真菌活性,同时具备低溶血活性。

本发明将亮氨酸放置于a和d位置充当肽的疏水核心,使a和d位置亮氨酸之间形成氢键,以保证肽形成α-螺旋结构,合理利用了亮氨酸的强烈的α-螺旋倾向性和强疏水性。

由于阳离子是肽具备抗菌活性的必要条件。本发明选择精氨酸,并且将精氨酸放置于b,c,e,f和g位置。利用其胍基侧链,与两个脂质头基团的磷酸酯部分形成强力的双齿氢键,从而促进抗菌肽具备更深的膜插入能力。此外,本发明还将上述由精氨酸和亮氨酸组成的七肽序列模式重复两次,保证了肽序列具备10个正电荷,从而保证了序列具备充足的阳离子性,进而利于与真菌和细菌菌膜通过静电作用充分结合,提升杀灭效果。

本发明还将肽序列N末端用辛酸修饰,进一步增强了肽的疏水性和稳定性,将肽序列的C末端进行酰胺化,进一步增强了肽的阳离子性和稳定性。最终,形成了结构简单,且具备理想抗真菌、细菌效果的肽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国农业大学,未经中国农业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110097800.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top