[发明专利]一种全自动曝光机

说明书

一种全自动曝光机，其包括第一台面、第二台面、曝光系统以及至少两个抓料机械手和至少一个暂存机械手，第一台面和第二台面位于曝光系统的两端，并且可以分别移动至所述曝光系统处，第一台面和第二台面均用于放置待曝光基件；至少一个暂存机械手从第一或第二台面上抓取基件，待与其最接近的抓料机械手空置后进行交接，随后抓料机械手将该基件转移到下一工位。本发明的全自动曝光机基件的转移更高效曝光产能更高，并且整机系统的结构紧凑，无论是占地面积还是占用的高度空间都会明显减小，特别占地面积减小尤为明显。

技术领域

本发明涉及曝光机技术领域，具体是一种全自动曝光机。

背景技术

为了适应电子产品智能化和小型化的发展，电子电路板的加工不再只限于对基件的单面进行曝光处理，而通常需要对基件的双面进行电子电路的曝光处理。而目前对基件进行双面处理时，通常需要两台曝光机加翻板机，具体地，设置第一曝光机和第二曝光机，在第一曝光机和第二曝光机之间设置翻板机。其中，第一曝光机包括第一对位机构和第一曝光系统，第二曝光机包括第二对位机构和第二曝光系统，翻板机位于第一曝光机的出料端和第二曝光机的进料端之间，上料装置位于第一曝光机的前端，下料装置位于第二曝光的后端。在对基件进行曝光时，先通过第一曝光机对基件的第一面进行对位与曝光操作，然后通过机械手将完成第一面曝光的基件转移至翻板机，翻板机将基件进行翻转，使得未曝光的第二面朝上，再通过机械手将基件转移至第二曝光机，第二曝光机对基件的第二面进行对位与曝光操作。这种双面曝光的方式虽然实现了双面曝光的自动化，但是需要两台独立的曝光机，也就意味着需要两个对位机构和两个曝光系统分别进行对位和曝光，整个自动化系统占用空间大，尤其是需要占用较大面积的场地。

此外，采用两台曝光机及辅助的翻板机与对应的机械手耗费成本很高，而传统机械手的运动轨迹也会导致整体设备的空间占用较大，除了前述的占地面积外，在高度方向上所占用的空间也可能进一步压缩使用者原本就有限的生产空间。而传统机械手运动幅度过大，也会导致生产效率下降，不能做到生产流程的最优化。因此，有必要研发出一种大大减少占地面积、适当减少高度空间、结构紧凑、生产效率更加优化的全自动曝光机。

发明内容

本发明的目的在于提供一种全自动曝光机，以减小完成基件曝光时系统的占用空间，尤其是占地面积与顶部空间，且降低系统的成本，提高生产效率。同时本发明还根据该全自动曝光机的结构原理，提出多种高效率双面曝光、单面曝光的方法步骤。

为实现上述目标，本发明采用如下的技术方案：

一种全自动曝光机，其包括第一台面、第二台面、曝光系统，所述全自动曝光机还包括至少两个抓料机械手和至少一个暂存机械手，所述两个抓料机械手包括设置于所述第一台面处的第一抓料机械手和设置于所述第二台面处的第二抓料机械手；所述第一台面和所述第二台面位于所述曝光系统的两端，并且可以分别移动至所述曝光系统处，所述第一台面和所述第二台面上均可放置待曝光的基件；当所述第一台面移动至所述曝光系统处时，所述曝光系统对放置在所述第一台面上的所述基件进行曝光，当所述第二台面移动至所述曝光系统处时，所述曝光系统对放置在所述第二台面上的所述基件进行曝光；所述至少一个暂存机械手抓取至少一面曝光完成的所述基件，待与其最接近的所述抓料机械手空置后，所述至少一个暂存机械手将其正在抓取的所述基件交接至所述抓料机械手中，随后所述抓料机械手将所述至少一面曝光完成的基件转移到下一工位。

优选地，所述全自动曝光机包括用于提供和输送基件的上料装置，所述上料装置设置有上料定位装置，所述上料定位装置用于对所述基件进行定位。

优选地，所述全自动曝光机进一步包括下料装置，用于存放或运走曝光完成的所述基件，所述下料装置设置有方位调整装置，所述方位调整装置可沿竖向升降，并带动所述基件转动。

优选地，所述全自动曝光机还包括设置于所述曝光系统上方的顶部输送组件，所述顶部输送组件用于将所述基件从所述第一台面侧输送至所述第二台面侧。

优选地，所述顶部输送组件包括清洁装置，所述清洁装置用于对所述基件表面进行清洁。