[发明专利]金属遮罩的制造方法有效
申请号: | 202110099589.5 | 申请日: | 2021-01-25 |
公开(公告)号: | CN112921365B | 公开(公告)日: | 2023-09-19 |
发明(设计)人: | 余俊毅 | 申请(专利权)人: | 达运精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C25D1/10 | 分类号: | C25D1/10;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H10K71/16;H10K71/00 |
代理公司: | 北京市立康律师事务所 11805 | 代理人: | 梁挥;孟超 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 制造 方法 | ||
1.一种金属遮罩的制造方法,其特征在于,包括:
提供一成长基板,其中该成长基板具有一导电面,而该导电面具有一法线;
在该导电面上形成一遮盖图案,其中该遮盖图案为绝缘体,并具有至少一开口以及接触该导电面的一绝缘表面,该至少一开口从该导电面沿着该法线而延伸;
以该遮盖图案作为屏蔽,进行一第一次电铸,以在该导电面上形成一模具部,其中该模具部填入于该至少一开口,并具有接触该导电面的一导电图案表面,其中该导电图案表面与该绝缘表面彼此切齐;
在进行该第一次电铸之后,移除该成长基板,并保留该遮盖图案与该模具部;
在移除该成长基板之后,对该模具部的该导电图案表面进行一第二次电铸,以在该导电图案表面上形成一金属图案;以及
在进行该第二次电铸之后,从该金属图案移除该模具部与该遮盖图案。
2.根据权利要求1所述的金属遮罩的制造方法,其特征在于,形成该遮盖图案的方法包括曝光与显影。
3.根据权利要求1所述的金属遮罩的制造方法,其特征在于,该模具部的厚度大于或等于该开口的深度。
4.根据权利要求1所述的金属遮罩的制造方法,其特征在于,该模具部与该金属图案两者材料不同。
5.根据权利要求1所述的金属遮罩的制造方法,其特征在于,该金属图案具有多个镂空区,而至少一该镂空区的最小宽度介于10微米至50微米之间。
6.根据权利要求1所述的金属遮罩的制造方法,其特征在于,该金属图案的厚度介于5微米至25微米之间。
7.根据权利要求1所述的金属遮罩的制造方法,其特征在于,该金属图案的材料为镍铁合金,而该金属图案中的铁成分介于50%至65%之间。
8.根据权利要求7所述的金属遮罩的制造方法,其特征在于,该金属图案中的镍成分介于35%至50%之间。
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