[发明专利]一种用于底涂液体稳定供料的系统在审

专利信息
申请号: 202110101469.4 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112623301A 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 韦攀攀;刁德勇 申请(专利权)人: 上海维誉自动化设备有限公司
主分类号: B65B3/12 分类号: B65B3/12;B65B3/26;B01F13/08;G01F23/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201800 上海市嘉定*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 液体 稳定 供料 系统
【权利要求书】:

1.一种用于底涂液体稳定供料的系统,其特征在于,包括磁力搅拌器(1)、底涂瓶固定块(2)、电容式传感器(3)、底涂瓶(4)、供料软管(5)、蠕动泵(6)、管道出料口阀门膜片式气缸(7)、底涂头(8)、聚四氟乙烯板(9)、电感式落料检测开关(10)、底涂回收容器(11)、磁力搅拌器转子(12)、软管阀门挤压块(13)和检测开关(14),所述磁力搅拌器(1)顶部设置有底涂瓶固定块(2),所述底涂瓶固定块(2)的顶部设置有底涂瓶(4),所述底涂瓶(4)上设置有磁力搅拌器转子(12),所述底涂瓶固定块(2)的一侧设置有电容式传感器(3),所述底涂瓶(4)顶部与第一供料软管(5)的一端固定连接,所述第一供料软管(5)的另一端与蠕动泵(6)的一端固定连接,所述蠕动泵(6)的另一端与第二供料软管(5)的一端固定连接,所述第二供料软管(5)的另一端与底涂头(8)的一端固定连接,所述底涂头(8)固定安装在管道出料口阀门膜片式气缸(7)上,所述软管阀门挤压块(13)通过固定螺栓固定安装在管道出料口阀门膜片式气缸(7)上并挤压住第二供料软管(5)的另一端,所述软管阀门挤压块(13)旁设置有检测开关(14)。

2.根据权利要求1所述的一种用于底涂液体稳定供料的系统,其特征在于,所述管道出料口阀门膜片式气缸(7)下方设置有底涂回收容器(11),所述底涂回收容器(11)的顶部固定安装有电感式落料检测开关(10),所述电感式落料检测开关(10)的顶部固定安装有聚四氟乙烯板(9),所述聚四氟乙烯板(9)的顶部设置有方型凹槽。

3.根据权利要求1所述的一种用于底涂液体稳定供料的系统,其特征在于,所述底涂瓶固定块(2)内设置有长方槽,所述长方槽内设置有与底涂瓶(4)相适配的固定架(15)。

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