[发明专利]阴影贴图的烘焙方法、装置、设备及计算机可读存储介质

权利要求书

1.一种阴影贴图的烘焙方法，其特征在于，包括：

获取虚拟场景中的至少一个物体信息、光源信息和第一分辨率；所述第一分辨率为指定的贴图分辨率；

根据所述至少一个物体信息，确定出至少一个第二分辨率，第二分辨率表征依据所述虚拟场景中的物体信息计算出的贴图分辨率；

基于所述光源信息、所述至少一个物体信息、所述第一分辨率和所述至少一个第二分辨率，计算出所述至少一个物体信息对应的至少一个距离场阴影数据；

将所述至少一个距离场阴影数据存储到所述第一分辨率的贴图上，得到所述至少一个物体信息中的每个物体信息对应的距离场阴影贴图。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述光源信息、所述至少一个物体信息、所述第一分辨率和所述至少一个第二分辨率，计算出所述至少一个物体信息对应的至少一个距离场阴影数据，包括：

对所述至少一个第二分辨率分别和所述第一分辨率进行比值计算，得到至少一个超采样参数；超采样参数表征了所述第一分辨率和第二分辨率之间的转换关系；

利用所述光源信息、所述至少一个物体信息和所述至少一个第二分辨率，确定出所述至少一个物体信息对应的至少一个阴影边缘；

基于所述至少一个超采样参数，对所述第一分辨率的像素中心到所述至少一个阴影边缘的距离进行计算，得到所述至少一个距离场阴影数据。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述光源信息包括多个子光源信息；所述利用所述光源信息、所述至少一个物体信息和所述至少一个第二分辨率，确定出所述至少一个物体信息对应的至少一个阴影边缘，包括：

针对所述至少一个物体信息中的每个物体信息，从所述多个子光源信息中，筛选出对应的匹配光源信息；所述匹配光源信息表征给物体造成光照或阴影影响的子光源的信息；

从所述至少一个第二分辨率中挑选出所述每个物体信息对应的目标第二分辨率，并将所述每个物体信息在所述目标第二分辨率下光栅化，得到所述每个物体信息的光栅化像素；

依据所述光栅化像素对应的纹素的位置和所述匹配光源信息，在同一时刻提取所述每个物体信息对应的阴影边缘；所述纹素的位置是对所述每个物体信息进行纹理坐标展开得到的；

当对所述至少一个物体信息均完成阴影边缘的提取时，得到所述至少一个物体信息对应的所述至少一个阴影边缘。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述依据所述光栅化像素对应的纹素的位置和所述匹配光源信息，在同一时刻提取所述每个物体信息对应的阴影边缘，包括：

依据所述匹配光源信息和所述纹素的位置，在同一时刻对所述每个物体信息的光栅化像素所对应的纹素进行阴影覆盖判断，得到阴影覆盖信息；所述阴影覆盖信息表征所述纹素是否处于阴影之中；

利用所述阴影覆盖信息，分别提取出所述每个物体信息对应的阴影边缘。

5.根据权利要求2至4任一项所述的方法，其特征在于，所述基于所述至少一个超采样系数，对所述第一分辨率的像素中心到所述至少一个阴影边缘的距离进行计算，得到所述至少一个距离场阴影数据，包括：

基于所述至少一个超采样参数，在同一时刻对第一分辨率的像素中心到所述至少一个阴影边缘中的每个阴影边缘的距离进行计算，得到所述每个阴影边缘对应的距离场阴影数据；

当对所述至少一个阴影边缘均完成距离场阴影数据的计算时，得到所述至少一个距离场阴影数据。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述基于所述至少一个超采样参数，在同一时刻对第一分辨率的像素中心到所述至少一个阴影边缘中的每个阴影边缘的距离进行计算，得到所述每个阴影边缘对应的距离场阴影数据，包括：

从所述至少一个超采样参数中，提取出所述每个阴影边缘对应的目标超采样参数；

在同一时刻，基于所述每个阴影边缘对应的目标超采样参数，计算所述第一分辨率的像素中心到所述每个阴影边缘的最小距离；

将所述最小距离，作为所述每个阴影边缘对应的距离场阴影数据。