[发明专利]确定水蒸气的饱和温度的方法、装置、电子设备和介质在审
申请号: | 202110106307.X | 申请日: | 2021-01-26 |
公开(公告)号: | CN112733388A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 李广伟;郝赫 | 申请(专利权)人: | 新奥数能科技有限公司 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;G06F17/15;G06F119/08 |
代理公司: | 北京嘉科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11687 | 代理人: | 杨波 |
地址: | 100102 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 确定 水蒸气 饱和 温度 方法 装置 电子设备 介质 | ||
1.一种确定水蒸气的饱和温度的方法,其特征在于,包括:
获取水蒸气的绝对压力;
基于所述绝对压力,利用高阶函数,确定出所述水蒸气的饱和温度。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述高阶函数是通过如下步骤得到的:
获取训练样本集合,其中,所述训练样本集合中的训练样本包括样本水蒸气的样本绝对压力;
将训练样本中的样本水蒸气的样本绝对压力代入标准饱和温度公式,得到所述样本水蒸气的样本饱和温度;
根据水和水蒸气的热力性质表和所述样本水蒸气的样本绝对压力,计算出所述样本水蒸气的标准饱和温度;
基于所述样本饱和温度和所述标准饱和温度,确定饱和温度误差;
基于所述饱和温度误差,生成高阶函数。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述基于所述饱和温度误差,生成高阶函数,包括:
确定所述饱和温度误差是否满足预设条件;
响应于确定不满足,调整所述标准饱和温度公式的参数,得到调整后的标准饱和温度公式;
基于所述调整后的标准饱和温度公式,确定调整后的饱和温度误差;
响应于确定所述调整后的饱和温度误差满足所述预设条件,将所述调整后的标准饱和温度公式确定为所述高阶函数。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述高阶函数包括:
t(P)=-10.9858534680823×P1.5+87.0639896853169×P1.25-282.92113545391×P+487.911303047971×P0.75-483.854281154476×P0.5+440.701716149279×P0.25-58.0848701830052,其中,P表示水蒸气的绝对压力,单位为MPa;T表示水蒸气的饱和温度,单位为℃。
5.根据权利要求1-4之一所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
将所述水蒸气的饱和温度传输至具有显示功能的目标设备,以及控制所述目标设备显示所述水蒸气的饱和温度。
6.一种确定水蒸气的饱和温度的装置,其特征在于,包括:
获取单元,被配置成获取水蒸气的绝对压力;
确定单元,被配置成基于所述绝对压力,利用高阶函数,确定出所述水蒸气的饱和温度。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述高阶函数是通过如下步骤得到的:
获取训练样本集合,其中,所述训练样本集合中的训练样本包括样本水蒸气的样本绝对压力;
将训练样本中的样本水蒸气的样本绝对压力代入标准饱和温度公式,得到所述样本水蒸气的样本饱和温度;
根据水和水蒸气的热力性质表和所述样本水蒸气的样本绝对压力,计算出所述样本水蒸气的标准饱和温度;
基于所述样本饱和温度和所述标准饱和温度,确定饱和温度误差;
基于所述饱和温度误差,生成高阶函数。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述基于所述饱和温度误差,生成高阶函数,包括:
确定所述饱和温度误差是否满足预设条件;
响应于确定不满足,调整所述标准饱和温度公式的参数,得到调整后的标准饱和温度公式;
基于所述调整后的标准饱和温度公式,确定调整后的饱和温度误差;
响应于确定所述调整后的饱和温度误差满足所述预设条件,将所述调整后的标准饱和温度公式确定为所述高阶函数。
9.一种电子设备,包括:
一个或多个处理器;
存储装置,其上存储有一个或多个程序;
当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行,使得所述一个或多个处理器实现如权利要求1-4中任一所述的方法。
10.一种计算机可读介质,其上存储有计算机程序,其中,所述程序被处理器执行时实现如权利要求1-4中任一所述的方法。
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