[发明专利]一种减少硅污染的多晶料合成方法在审

专利信息
申请号: 202110106448.1 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN113005515A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 许振华;李勇 申请(专利权)人: 威科赛乐微电子股份有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/42
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 张晨
地址: 404040 重庆*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 减少 污染 多晶 合成 方法
【权利要求书】:

1.一种减少硅污染的多晶料合成方法,其特征在于,在将稼容器放入石英管之前,先在稼容器的底部下方放置垫板,所述垫板为高纯石英材质,在稼容器的容器口上放置相匹配的氮化硼盖板。

2.根据权利要求1所述的一种减少硅污染的多晶料合成方法,其特征在于,所述垫板的厚度为1-5mm,所述氮化硼盖板的厚度为0.5-2mm。

3.根据权利要求2所述的一种减少硅污染的多晶料合成方法,其特征在于,所述合成方法具体为:将垫板和氮化硼盖板分别放置于稼容器的底部和容器口,然后将稼容器推入石英管管尾,在石英管中放入砷容器,对石英管抽真空,焊接密封,采用分段加热进行多晶料的合成。

4.根据权利要求3所述的一种减少硅污染的多晶料合成方法,其特征在于,所述稼容器距离石英管尾部的距离为1-10cm。

5.根据权利要求4所述的一种减少硅污染的多晶料合成方法,其特征在于,所述分段加热具体为:先对砷容器所处管段进行加热,升温至600-800℃后,对稼容器所处管段进行加热,升温至1230-1280℃,保温反应完成后,降至室温。

6.根据权利要求5所述的一种减少硅污染的多晶料合成方法,其特征在于,在所述分段加热过程中,保温反应完成后,降温时砷容器所处管段的温度保持,稼容器所处管段的温度以10-40℃/h的速率进行降温。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于威科赛乐微电子股份有限公司,未经威科赛乐微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110106448.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top