[发明专利]一种基于半金属C4有效

专利信息
申请号: 202110109106.5 申请日: 2021-01-27
公开(公告)号: CN112769030B 公开(公告)日: 2022-09-23
发明(设计)人: 胡友友;张少宇;窦健泰;张明明;赵明琳;张亚梅 申请(专利权)人: 江苏科技大学
主分类号: H01S3/098 分类号: H01S3/098;H01S3/113
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 212008 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
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【权利要求书】:

1.一种基于半金属C4N3的可饱和吸收体器件,其特征在于,包括光纤端面可饱和吸收体器件、倏逝场式光纤可饱和吸收体器件和反射式可饱和吸收镜,所述的光纤端面可饱和吸收体器件包括光源、光纤跳线(2)和纳米片溶液,所述光纤跳线(2)的一端与光源连接,另一端侵入纳米片溶液中;所述的倏逝场式光纤可饱和吸收体器件包括光纤,所述光纤的侧面涂有纳米片溶液;所述的反射式可饱和吸收镜包括反射镜(6),所述反射镜(6)的表面涂有纳米片溶液;所述的纳米片溶液为半金属C4N3纳米片溶液(3);

所述的光纤端面可饱和吸收体器件为基于半金属C4N3的光纤端面可饱和吸收体器件,其采用光诱导法制作,具体制作方法包括如下步骤:

1)将光纤跳线的一端与激光光源相连,另一端浸入在半金属C4N3纳米片溶液中;

2)保持激光光源的输出,10分钟后关掉激光光源;

3)将光纤跳线从半金属C4N3纳米片溶液中取出后进行干燥处理;

所述的倏逝场式光纤可饱和吸收体器件的制作方法是:将半金属C4N3纳米片溶液(3)涂覆在包层被部分剥离的光纤的侧面,并进行干燥处理,形成半金属C4N3 涂覆层(5);

所述的反射式可饱和吸收镜的制作方法是:将半金属C4N3纳米片溶液(3)涂覆在反射镜(6)上,并进行干燥处理,形成半金属C4N3 涂覆层(5)。

2.根据权利要求1所述的一种基于半金属C4N3的可饱和吸收体器件,其特征在于,所述的光源采用激光光源(1),所述的激光光源(1)采用连续光纤激光器。

3.根据权利要求1所述的一种基于半金属C4N3的可饱和吸收体器件,其特征在于,所述的半金属C4N3纳米片溶液(3)的制备方法为:将半金属C4N3 材料放入到蒸馏水中,进行超声粉碎,制备得到半金属C4N3分散液;将上述半金属C4N3分散液进行离心处理,静置后取上层清液,得到半金属C4N3纳米片溶液(3)。

4.根据权利要求1所述的一种基于半金属C4N3的可饱和吸收体器件,其特征在于,所述的反射镜(6)采用金属或介质反射镜。

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