[发明专利]制备光纤光栅的装置及光纤光栅的制备方法

权利要求书

1.一种制备光纤光栅的装置，其特征在于，所述装置包括：紫外激光器、光束整形系统、反射镜、柱透镜、相位模板、光敏光纤和二氧化碳激光器；

所述紫外激光器输出光束；

所述光束整形系统接收所述输出光束并整形输出准直光束；

所述反射镜反射所述准直光束；

所述柱透镜将经反射后的准直光束进行聚焦并形成聚焦光线；

所述聚焦光线透过所述相位模板后，形成干涉条纹；

所述光敏光纤设置在形成所述干涉条纹的区域中，所述干涉条纹照射到所述光敏光纤；

所述二氧化碳激光器输出激光束，且所述激光束照射到所述光敏光纤。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

电控平移台；

所述反射镜固定到所述电控平移台；

所述反射镜可沿准直光束轴向变速扫描。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述二氧化碳激光器包括：

扫描振镜，所述扫描振镜可编程控制；

所述激光束经过所述扫描振镜后照射到光敏光纤；

通过对所述扫描振镜的控制，使所述激光束在光敏光纤沿轴扫描。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：

所述反射镜的反射面与入射前的准直光束成45°；

所述经反射镜反射后的准直光束成与所述入射前的准直光束成90°。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：

所述相位模板为线性啁啾相位模板；

所述干涉条纹的条纹周期为相位模板周期的一半。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：

所述输出光束波长为193nm～355nm。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：

所述准直光束直径为0.5mm～6mm。

8.一种光纤光栅的制备方法，包括：

去除光敏光纤的涂覆层；

清洁所述光敏光纤的表面；

将所述光敏光纤设置到相位模板后，并与所述相位模板刻线成90°；

通过二氧化碳激光器的扫描振镜使激光束在光敏光纤沿轴扫描；

通过紫外激光器以及反射镜来回扫描实现光栅的切趾；

待所述反射镜进行一个或多个周期的扫描后，完成光栅制备。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述去除光敏光纤的涂覆层包括：

将光敏光纤的待刻写区域用化学腐蚀或者机械剥除去除涂覆层。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述刻写区域与相位模板间距50um～100um。