[发明专利]一种用于通用照明的硅白光发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110112743.8 申请日: 2021-01-27
公开(公告)号: CN112802928B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 薛夏妍;张宇宸;张驰;陆明 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/34;C30B1/02;C30B7/14;C30B28/02;C30B28/04;C30B29/06;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;陆尤
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 通用 照明 白光 发光二极管 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种用于通用照明的硅白光发光二极管的制备方法,其中,所述硅白光发光二极管,其基本结构包括:Al阴极、p型硅衬底、有源层、ITO阳极;其中有源层是由高密度硅纳米晶嵌在SOG中形成的复合薄膜;制备的具体步骤如下:

(一)硅纳米晶(Si-NC)的合成:

(1)将4-6 mL的三乙氧基硅烷添加到配有磁搅拌子的圆底烧瓶中,在氩气环境中搅拌0.5~1h;

(2)配置HCl溶液,将其缓慢滴加到置于圆底烧瓶底部的三乙氧基硅烷中,形成白色凝胶,在真空中过夜干燥,成为白色固体;

(3)将干燥的白色固体在研钵中进行粗磨后,置于石英坩埚内,将石英坩埚转移至高温管式炉的恒温区内,在氮氢混合条件下进行高温退火,得到深褐色粉末;高温退火的过程如下:将高温管式炉由室温升温至1000℃~1150℃,升温时间为1h~2h,并在此温度下维持60~90min,随后降温2~3h;

(4)利用球磨机对该粉末进行精磨,设置转速为500~800rpm,球磨时间为8~12h,至此完成硅纳米晶(Si-NC)的合成;

(二)硅纳米晶(Si-NC)的分散:

(1)取300~500mg硅纳米晶细粉置于聚四氟烧杯中,加入去离子水、乙醇和氢氟酸,混合均匀,将混合物搅拌1~3h,以实现二氧化硅基质的酸性刻蚀和硅纳米晶尺寸的减小;

(2)以5000~10000rpm的转速离心刻蚀后的溶液,得到硅纳米晶沉淀,用乙醇洗涤两次;

(3)向离心后的沉淀中加入2~5mL 1-十二烯和5~10mL均三甲苯,经超声混合后转移到另一个配有磁搅拌子的圆底烧瓶中;

(4)向该圆底烧瓶中通入氩气,对混合物鼓泡脱气1~2h,然后升温至150~170℃,进行硅氢化反应,时间2~4h,得到澄清的黄色溶液;

(5)通过旋转蒸发仪除去未反应的1-十二烯和均三甲苯;

(6)最后,将十二烷基钝化的硅纳米晶分散在甲苯中,得到硅纳米晶溶液;

(三)硅WLED有源层的制备:

(1)选取p型硅片作为衬底,用H2SO4和H2O2的混合液对硅片清洗后,用酒精和去离子水交替持续冲洗,使用高纯氮气枪吹干后待旋涂;

(2)将硅纳米晶溶液添加到SOG中,二者体积比例为1:(1~3),充分搅拌混溶;

(3)采用高速旋涂方式均匀成膜;

(4)将成膜后的样品置于烘箱内,于100~180℃烘烤5~10min,以固化薄膜;

(5)将该薄膜样品置于管式炉中,在氮气气氛中,在400~700℃进一步退火30~60min;

(四)电极的制备:

在制备完成的有源层上,用电子束蒸镀ITO,作为阳极;在p型硅片衬底背面,用电子束蒸镀Al,作为阴极。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(一)中所述HCl溶液中,水与HCl的体积比为(2-4):1;氮氢混合气中,H2与N2体积比为5:(90-100)。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(二)中所述去离子水、乙醇和氢氟酸,三者的体积比为1:(0.8-1.2):(0.8-1.2)。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(三)中所述p型硅片的电阻率为0.1~0.2Ωcm。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,通过调节退火温度和硅纳米晶浓度调整LED的色度,实现硅发光二极管的白光发射。

6.一种由权利要求1-5之一所述制备方法得到的用于通用照明的硅白光发光二极管。

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