[发明专利]显示面板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110114016.5 申请日: 2021-01-27
公开(公告)号: CN112885882B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: 金玉;马明冬;丁冬;黄丽丽;张鹏辉;陆蕴雷;李磊;习王锋 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 代理人: 李浩
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法
【说明书】:

本申请提供了显示面板及其制备方法,解决了现有技术中因开设开孔而导致开孔区周边产生黑斑以及金属残留导致显示异常的技术问题。本申请提供的显示面板,在围绕开孔区的过渡区中依次设置至少一个第一环形隔断槽和至少一个第二环形隔断槽。第一环形隔断槽可以阻挡切割时无机膜层产生的应力延伸至显示区,降低由于切割应力导致开孔区边缘黑斑的概率;相对于现有技术中的隔断槽而言,本申请中第二环形隔断槽的槽深小于第一环形隔断槽的槽深,在后续通过沉积‑刻蚀的方式来制备其他金属膜层时,减少了残留在第二环形隔断槽内的残留金属,因此降低了显示面板异常的概率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,具体涉及显示面板及其制备方法。

背景技术

为了提高显示面板屏占比,在显示面板内部会开设开孔,为了防止开孔区边缘黑斑以及封装失效,在开孔区外侧设置侧刻结构来阻挡切割应力和水氧向显示区延伸。但当侧刻结构之间的槽深度太深时,侧刻结构之间会残留其他工艺涉及的金属,而这些残留金属会造成显示异常;另外,当侧刻结构之间的槽的深度太浅时,在通过切割制备开孔时产生的切割应力很容易延伸至显示区,使得开孔区边缘产生黑斑,造成显示异常。

发明内容

有鉴于此,本申请实施例提供了显示面板及其制备方法,以解决现有技术中因开设开孔而导致开孔区边缘产生黑斑以及金属残留导致显示异常的技术问题。

根据本申请的一个方面,本申请提供了一种显示面板,所述显示面板包括:阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板以及设置在所述衬底基板一侧的驱动电路层;

其中,所述过渡区包括:围绕所述开孔区设置的至少一个第一环形隔断槽以及至少一个第二环形隔断槽,所述至少一个第二环形隔断槽位于所述至少一个第一环形隔断槽远离所述开孔区的一侧

其中,所述第一隔断槽以及所述第二隔断槽均贯穿所述驱动电路层,且在第一方向上,所述第一环形隔断槽的槽深大于所述第二环形隔断槽的槽深,所述第一方向为所述显示面板的膜层叠加方向。

在本申请一实施例中,所述衬底基板包括:衬底层以及设置在所述衬底层一侧的无机层;其中,所述第一环形隔断槽的靠近所述衬底层的底端抵至所述衬底层靠近所述无机层的表面;所述第二环形隔断槽的靠近所述衬底层的底端位于所述无机层内。

在本申请一实施例中,所述无机层包括依次层叠在所述衬底层一侧的第一子无机层、第二子无机层和第三子无机层;所述第二环形隔断槽的靠近所述衬底层的底端位于所述第一子无机层、所述第二子无机层以及所述第三子无机层中的任意一层内。

在本申请一实施例中,所述过渡区包括:多个所述第二环形隔断槽;其中,从靠近所述开孔区到远离所述开孔区的方向上,所述多个第二环形隔断槽的靠近所述衬底层的底端与所述衬底层之间的距离依次变大。

在本申请一实施例中,距离所述开孔区最远的所述第二环形隔断槽的靠近所述衬底层的底端位于所述第三子无机层中。

作为本申请的第二方面,本申请提供了一种显示面板的制备方法,所述显示面板包括:包括开孔区以及围绕所述开孔区的过渡区;其中,所述显示面板的制备方法包括:提供阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板以及设置在所述衬底基板一侧的驱动电路层;在所述开孔区以及所述过渡区内形成过渡槽;对所述过渡槽的底端进行第一次刻蚀,在所述开孔区内形成初始开孔槽以及在所述过渡区内形成围绕所述初始开孔槽周围的至少一个第一环形过渡槽;对所述第一环形过渡槽的底端以及所述初始开孔槽的底端进行第二次刻蚀,形成开孔槽以及围绕所述开孔槽周围的至少一个第一环形隔断槽;以及对所述过渡槽的底端进行第三次刻蚀,在所述过渡区内形成围绕所述开孔槽的至少一个第二环形隔断槽,所述至少一个第二环形隔断槽位于所述至少一个第一环形隔断槽远离所述开孔槽的一侧;其中,在第一方向上,所述第一环形隔断槽的槽深大于所述第二环形隔断槽的槽深,所述第一方向为所述显示面板的膜层叠加方向。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司,未经昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110114016.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top