[发明专利]基于混合粒子群和连续投影的荧光光谱二次特征选择方法有效
申请号: | 202110114945.6 | 申请日: | 2021-01-26 |
公开(公告)号: | CN112819062B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 季仁东;王晓燕;曹苏群;卞海溢;朱铁柱;庄立运;杨玉东;顾相平;韩月;蒋喆臻 | 申请(专利权)人: | 淮阴工学院 |
主分类号: | G06V10/771 | 分类号: | G06V10/771;G06V10/77;G06V10/764;G06V10/70;G06V10/46;G06K9/62;G06N3/00;G06N3/12 |
代理公司: | 淮安市科文知识产权事务所 32223 | 代理人: | 姜华 |
地址: | 223005 江苏省淮*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 混合 粒子 连续 投影 荧光 光谱 二次 特征 选择 方法 | ||
1.一种基于混合粒子群和连续投影的荧光光谱二次特征选择方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)应用混合粒子群算法对原始荧光光谱进行第一次特征选择;
(2)获得第一次降维后的特征荧光光谱;
(3)应用连续投影算法对特征荧光光谱进行第二次特征选择;
(4)获得第二次降维后的特征荧光光谱;
步骤(1)中所述混合粒子群算法为在粒子群算法的粒子更新环节引入遗传算法,所述步骤(1)的过程为:以混合粒子群算法结合支持向量机回归模型对原始荧光光谱进行特征选择,获得第一次降维后的特征荧光光谱和优化后的支持向量机参数;所述粒子群算法为离散二进制粒子群算法;
所述步骤(3)的过程为:针对第一次降维后获得的特征荧光光谱,应用连续投影算法结合多元线性回归模型对特征光谱进行第二次特征选择,获得第二次降维后的特征荧光光谱。
2.根据权利要求1所述的一种基于混合粒子群和连续投影的荧光光谱二次特征选择方法,其特征在于:基于第二次降维后的特征荧光光谱,结合优化后的支持向量机参数进行支持向量机回归建模,进行精确定量分析,以此验证二次降维后特征荧光光谱的显著性。
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