[发明专利]一种含硼改性隔膜及其制备方法和应用及含该隔膜的电池

权利要求书

1.一种含硼改性隔膜，其特征在于：所述改性隔膜通过辐照接枝技术将具有缺电子效应的硼元素接枝到隔膜基材的表面和孔洞中而制得；所述硼元素来源于具有不饱和键基团且硼原子以sp²杂化形成的共价分子的含硼化合物，将含硼化合物加入到有机溶剂中；所述的具有不饱和键基团且硼原子以sp²杂化形成的共价分子的含硼化合物包括4,4,5,5-四甲基-2-乙烯基-1,3,2-二氧杂环戊硼烷、乙烯基硼酸2-甲基-2,4-戊二醇酯、乙烯基硼酸甲基亚氨基二乙酸酯和乙烯基硼酸二丁酯中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的一种含硼改性隔膜，其特征在于：所述辐照接枝的方法为预辐照接枝法、共辐照接枝法和过氧化法中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种含硼改性隔膜，其特征在于：所述辐照接枝的辐照剂量为10-100KGy。

4.根据权利要求1-3任一所述的含硼改性隔膜在锂离子二次电池中的应用。

5.一种电池，包括正极材料、负极材料，其特征在于：在正极材料和负极材料之间有根据权利要求1-3任一所述的含硼改性隔膜。

6.一种含硼改性隔膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)制备含硼化合物有机溶液：将含硼化合物加入到有机溶剂中，以450-550r/min的速度搅拌5.5-6.5h后得到质量分数为10-100％的含硼化合物的有机溶液；

(2)清洗隔膜基材并干燥：用丙酮清洗隔膜基材并在55-65℃下干燥5.5-6.5h；

(3)采用共辐照接枝法、预辐照接枝法和过氧化法中的一种进行辐照接枝，辐照剂量为10-100KGy；

(4)辐照接枝完成后清洗并干燥：将步骤(3)所得改性隔膜用乙醇清洗干净，在55-65℃下干燥5.5-6.5h，干燥后即得到含硼改性隔膜。

7.根据权利要求6所述的一种含硼改性隔膜的制备方法，其特征在于：

所述共辐照接枝法为：将步骤(2)中处理过的隔膜基材置于含硼化合物的有机溶液中，通过辐射源进行共辐照；

所述预辐照接枝法为：将步骤(2)中处理过的隔膜基材在氩气氛围下进行预辐照，再将其置于含硼化合物的有机溶液中进行接枝反应；

所述过氧化法为：将步骤(2)中处理过的隔膜基材在氧气氛围下进行预辐照，再将其置于含硼化合物的有机溶液中进行接枝反应。

8.根据权利要求6所述 的一种含硼改性隔膜的制备方法，其特征在于：所述含硼化合物具有不饱和键基团且硼原子以sp²杂化形成共价分子。