[发明专利]一种基板、OLED显示屏及基板的制备方法

说明书

本公开实施例提供了一种基板、OLED显示屏及基板的制备方法，基板至少包括：衬底，设置在衬底上的像素界定层；其中，像素界定层包括：第一像素界定子层和第二像素界定子层，第一像素界定子层远离衬底；第一像素界定子层和第二像素界定子层为预定溶液通过预定烘烤曝光显影工艺形成，预定溶液至少包括：主体材料、第一掺杂材料、第二掺杂材料、溶剂、引发剂；第二掺杂材料的氟含量小于第一掺杂材料的氟含量。本公开实施例通过简单的工艺制造了具有双层像素界定层效果的基板，增加了基板的像素界定层的疏液性，降低墨滴的攀爬，提高膜厚均匀性，提升像素有效开口，优化显示面板寿命。

技术领域

本公开涉及显示器领域，特别涉及一种基板、OLED显示屏及基板的制备方法。

背景技术

OLED(OrganicLight-Emitting Diode，有机电致发光器件)作为一种新型的发光器件，在显示和照明领域体现出了巨大的应用潜力，因而受到了学术界和产业界的强烈关注。在显示领域，OLED相对于LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点。

IJP(ink-jet printing，喷墨打印)工艺需要预先在基板的电极上制作PDL(pixeldefinition layer，像素界定层)，以限定墨滴精确的流入指定的R/G/B亚像素区，墨滴需要在ITO(氧化铟锡/导电玻璃)像素内充分铺展，且又不溢出。现有技术中，影响墨滴膜厚均匀性的因素一般分为两个：

如图1所示，对于双层PDL，目前PDL采用顶部表面能较小而底部表面能较大的双功能材料，PDL顶部表面能小使得表层具备疏液性从而保证墨滴不会溢流，PDL底部表面能大使得底层具备一定的亲液性，从而保证墨滴在ITO像素内铺展完全以避免墨滴在ITO像素铺展不完全而产生的针孔漏电现象。

但是，目前双层PDL工艺复杂，一般为有机树脂及无机物，需要2种工艺，且2套Mask，制造成本高，工艺风险大。

如图2所示，对于单层PDL，单层PDL材料一般只能做到顶部表面很薄一层具备疏液性，而PDL材料下部大部分厚度均具备亲液性，两侧的PDL对墨水溶液有很强的亲和力，这样由于墨滴在干燥过程中会沿着PDL亲液层攀爬至疏液层高度形成边缘厚，中间厚的不均匀薄膜，这种不均匀的薄膜容易导致器件像素内发光不均匀，进而影响器件的寿命表现。

发明内容

有鉴于此，本公开实施例提出了一种基板、OLED显示屏及基板的制备方法，用以解决现有技术中单层PDL的疏液性能不达标、双层PDL工艺太复杂的问题。

一方面，本公开实施例提出了一种基板，至少包括：衬底，设置在所述衬底上的像素界定层；其中，所述像素界定层包括：第一像素界定子层和第二像素界定子层，所述第一像素界定子层远离所述衬底；所述第一像素界定子层和所述第二像素界定子层为预定溶液通过预定烘烤曝光显影工艺形成，所述预定溶液至少包括：主体材料、第一掺杂材料、第二掺杂材料、溶剂、引发剂；所述第二掺杂材料的氟含量小于所述第一掺杂材料的氟含量。

在一些实施例中，所述第一掺杂材料的氟含量为10％-60％。

在一些实施例中，所述第二掺杂材料的氟含量为所述第一掺杂材料的氟含量的30％-70％。

在一些实施例中，还包括：设置在所述像素界定层中的像素。

在一些实施例中，所述像素包括：R色像素、B色像素、G色像素。

在一些实施例中，所述预定烘烤曝光显影工艺依次包括：真空冷凝干燥、软烘、曝光、显影、硬烘。

在一些实施例中，所述衬底为玻璃衬底。

另一方面，本公开实施例提出了一种OLED显示屏，至少包括：本公开任意实施例提供的所述的基板。