[发明专利]绝缘PI膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种绝缘PI膜，其特征在于，包括按重量份计的以下成分：均苯四甲酸二酐30～70份；联苯四甲酸二酐20～60份；PPD 20～50份；ODA20～60份；聚亚烷基二醇5～20份；苯乙烯‑丙烯腈共聚物5～20份；氧化铝3～10份；超细玻璃棉5～15份；混合纳米粒子3～15份；溶剂40～90份。本发明中，聚亚烷基二醇与苯乙烯‑丙烯腈共聚物复配使用，提高了PI膜的绝缘性能和强度；氧化铝、超细玻璃棉的添加进一步改善了绝缘性能和耐热性能；纳米二氧化硅和纳米氮化硅的复配使用时，在能显著提高PI膜的耐高温性能、强度、耐刮性能的前提下，不会导致绝缘性能的下降，使得PI膜的综合性能得以提高。

技术领域

本发明涉及PI膜领域，特别涉及一种绝缘PI膜及其制备方法。

背景技术

PI膜(聚酰亚胺膜)作为一种特种工程材料，已广泛应用在航空、航天、电气/电子、微电子、纳米、液晶、分离膜、激光、机车、汽车、精密机械和自动办公机械等领域。PI膜因具有优异性能，在越来越多的电子产品中得到了广泛的应用，随着PI膜所应用的产品的发展，对PI膜的绝缘性能、耐热性能、强度等性能提出了更高的要求，例如PI绝缘膜，需要同时具有很好的绝缘性能、耐热性能和适宜的强度才能满足应用的需求。所以，如何提高PI膜的综合性能是目前亟需解决的问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足，提供一种绝缘PI膜及其制备方法。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种绝缘PI膜，包括按重量份计的以下成分：

优选的是，所述溶剂为N、N-二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、三乙胺中的任意一种或多种。

优选的是，所述混合纳米粒子为纳米二氧化硅和纳米碳化硼的混合物。

优选的是，所述混合纳米粒子中的纳米二氧化硅和纳米碳化硼的质量比为2:1。

优选的是，所述纳米二氧化硅和纳米碳化硼的粒径均为20-60nm。

优选的是，该绝缘PI膜包括按重量份计的以下成分：

优选的是，该绝缘PI膜包括按重量份计的以下成分：

优选的是，该绝缘PI膜包括按重量份计的以下成分：

优选的是，该绝缘PI膜的制备方法包括以下步骤：

1)将纳米二氧化硅和纳米碳化硼混合并制备成分散液；

2)将均苯四甲酸二酐、联苯四甲酸二酐、PPD、ODA、聚亚烷基二醇、苯乙烯-丙烯腈共聚物、氧化铝、超细玻璃棉以及步骤1)得到的分散液加入到溶剂中，混合均匀；

3)将步骤2)得到的混合物涂布在离型层上，固化后形成PI膜半成品，然后在PI膜半成品的表面压合另一离型层，即得绝缘PI膜。

本发明的有益效果是：

本发明的绝缘PI膜具有优异的绝缘性能、耐高温性能和强度；本发明聚亚烷基二醇与苯乙烯-丙烯腈共聚物复配使用，提高了PI膜的绝缘性能和强度；氧化铝、超细玻璃棉的添加进一步改善了绝缘性能和耐热性能；纳米二氧化硅和纳米氮化硅的复配使用时，在能显著提高PI膜的耐高温性能、强度、耐刮性能的前提下，不会导致绝缘性能的下降，使得PI膜的综合性能得以提高；本发明的绝缘PI膜具有优异的综合性能，且制备方法简单。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。