[发明专利]盖板、电子设备及盖板的制备方法

权利要求书

1.一种盖板，其特征在于，包括：

基材；

光学纹理层，所述光学纹理层设于所述基材的第一侧，所述光学纹理层的第一侧面与所述基材连接，所述光学纹理层的第二侧面的至少一部分为相对于所述第一侧面倾斜延伸的斜面，所述斜面设有多个间隔分布的开口槽，每个所述开口槽具有第一渐变面和第二渐变面；

镀膜层，所述镀膜层连接于所述光学纹理层的第二侧，所述镀膜层在所述光学纹理层上的投影覆盖所述斜面，所述镀膜层与多个所述开口槽的所述第一渐变面和所述第二渐变面配合以使所述盖板的表面呈现颜色渐变。

2.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述第二侧面具有两个所述斜面，其中一个所述斜面从所述第二侧面的中部沿第一方向朝向所述第一侧面倾斜延伸，另一个所述斜面从所述第二侧面的中部沿第二方向朝向所述第一侧面倾斜延伸，所述第一方向与所述第二方向相反。

3.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述开口槽为V形槽，所述开口槽的一个侧壁为所述第一渐变面，所述开口槽的另一个侧壁为所述第二渐变面。

4.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，每个所述开口槽的所述第一渐变面与所述第二渐变面形成的夹角的角度相等，且每个所述夹角的角度为125°-135°。

5.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，相邻两个所述开口槽中，一个所述开口槽的所述第一渐变面与另一个所述开口槽的所述第二渐变面配合形成齿纹，在所述斜面的倾斜方向上，多个所述齿纹的厚度逐渐减小。

6.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，任意两个相邻的所述开口槽的夹角的顶点之间的距离相等，且相邻两个所述开口槽的夹角的顶点的之间的距离为20μm-30μm。

7.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述镀膜层包括依次层叠设置的第一钛层、二氧化硅层和第二钛层，其中，

所述二氧化硅层沉积在所述第一钛层上，所述第二钛层沉积在所述二氧化硅层上，所述第一钛层和所述第二钛层分别为二氧化钛，所述二氧化硅层的厚度小于所述第一钛层或所述第二钛层的厚度。

8.一种根据权利要求1-7中任一项所述盖板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、在模具上制作出具有开口槽的样具；

S2、将具有所述开口槽的样具转印至具有平面的膜片，以在所述膜片的平面上形成所述开口槽；

S3、对所述膜片浸银，并电铸镍模；

S4、将所述镍模转印至基材，以在所述基材上转印出光学纹理层；

S5、在所述光学纹理层上沉积镀膜层。

9.根据权利要求8所述的盖板的制备方法，其特征在于，还包括：

S6、在所述基材的背向所述镀膜层的一侧印刷油墨层；

S7、按照预设外形，切割所述基材。

10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的盖板。