[发明专利]基板固定装置

说明书

本公开提供一种基板固定装置，该基板固定装置包括：静电吸盘，其构造为在静电吸盘上吸附并且保持对象，并且静电吸盘包括基体和静电电极，对象安装在该基体上，并且静电电极设置在基体中；以及底板，静电吸盘安装在底板上，并且底板具有多个通孔，该多个通孔中的每一个使基体的面向底板的第一面露出。从通孔中的每一个朝向基体发射激光。

技术领域

本公开涉及一种基板固定装置。

背景技术

在背景技术中，用于制造半导体器件的成膜设备或等离子体蚀刻设备具有这样的平台：该平台用于在真空处理室中将晶片精确地保持在该平台上。例如，提出了一种作为该平台的基板固定装置，该基板固定装置通过安装在底板上的静电吸盘吸附并且保持晶片。

作为基板固定装置的示例，存在这样的基板固定装置：该基板固定装置具有设置有用于调节晶片温度的加热元件的结构。例如，关于这种基板固定装置已经提出了这样的方法：在静电吸盘中置有电阻器作为加热元件，并且将电能施加至电阻器以使电阻器产生热，或者提出了这样的方法：将用作加热元件的发光二极管布置为具有固定行数和固定列数的规则阵列，或者布置为与同心圆的直径相关，使得同心圆中靠外的一个同心圆比同心圆中靠内的一个同心圆具有更多数量的发光二极管(例如，参见JP-A-2018-525813)。

为了在基板固定装置中独立地控制多个区域的温度，需要将用于控制的大量电线等引出至静电吸盘的外部。此外，需要将引出至静电吸盘的外部的电线等经由形成在底板中的通孔引出至外部。因此，随着电线等的数量增加，通孔的数量也会增加。即，由于电线等的数量增加，由底板中的通孔所占据的面积增加，并且用于设计底板的自由度降低。

发明内容

本公开提供一种基板固定装置，即使在独立地控制静电吸盘的多个区域的温度的情况下，该基板固定装置也能够抑制用于设计底板的自由度的降低。

某个实施例提供了一种基板固定装置。

该基板固定装置包括：

静电吸盘，其构造为在静电吸盘上吸附并且保持对象，并且该静电吸盘包括基体和静电电极，对象安装在该基体上，并且该静电电极设置在基体中；以及

底板，静电吸盘安装在该底板上，并且该底板具有多个通孔，该多个通孔中的每一个使基体的面向底板的第一面露出。

从通孔中的每一个朝向基体发射激光。

附图说明

图1是以简化的方式示出根据第一实施例的基板固定装置的示意性截面图；

图2是示出在基体中限定的温度可控区域的平面图；

图3是示意性地示出用于分别加热温度可控区域的光纤的布置的平面图；

图4是示出布置在基板固定装置外部的激光辐射装置的示意图；

图5是以简化的方式示出根据比较例的基板固定装置的示意性截面图；

图6是放大根据第一实施例的变型例1的基板固定装置中的光纤的周边部分的局部放大截面图；

图7是放大根据第一实施例的变型例2的基板固定装置中的光纤的周边部分的局部放大截面图；并且

图8是以简化的方式示出根据第一实施例的变型例3的基板固定装置的示意性截面图。

具体实施方式

下面将参考附图描述本公开的实施例。在每个附图中，相同的构成部分将相应地并且分别地通过相同的附图标记表示，并且可以省略关于这些构成部分的重复描述。

(第一实施例)