[发明专利]蒸镀掩模的制造方法及蒸镀掩模的制造装置

权利要求书

1.一种蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

在形成有蒸镀图案的第一镀敷层上经由粘接层来配置掩模框架，

在所述掩模框架上配置间隔件，

以覆盖所述第一镀敷层、所述掩模框架、所述间隔件的方式配置膜，

对所述膜的下方侧的空间进行减压，使得所述膜按压所述间隔件，

通过所述间隔件按压所述掩模框架，来将所述掩模框架与所述第一镀敷层压接在一起。

2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

所述间隔件具有与所述掩模框架接触的接触面和作为距所述掩模框架最远的部位的顶部，所述间隔件的截面形状在所述接触面与所述顶部之间具有最大宽度，且在所述接触面与具有所述最大宽度的部位之间具有比所述最大宽度小的宽度。

3.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

所述间隔件包括：具有第一缺口的第一棒体；和与所述第一棒体交叉的具有第二缺口的第二棒体，

所述第一缺口与所述第二缺口嵌合。

4.根据权利要求3所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于

所述第一棒体和所述第二棒体各自的截面形状为圆形。

5.根据权利要求3所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

所述第一棒体和所述第二棒体各自的宽度小于所述掩模框架的宽度。

6.根据权利要求3～5中任一项所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

所述第一棒体和所述第二棒体各自的材料是有机树脂。

7.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

所述间隔件具有井字形结构。

8.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于：

压接所述掩模框架和所述第一镀敷层时的真空度以表压来表示时为﹣90kPa以下。

9.一种蒸镀掩模的制造装置，其特征在于，包括：

载置台，其用于设置包括掩模框架的对象物；

间隔件，其位于所述载置台的上方，且以与所述掩模框架接触的方式配置；

位于所述间隔件的上方的用于按压所述间隔件的膜；和

固定所述膜的膜固定部，

所述载置台包括槽部和设置于所述槽部中的排气口。

10.根据权利要求9所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：

所述间隔件具有与所述掩模框架接触的接触面和作为距所述掩模框架最远的部位的顶部，所述间隔件的截面形状在所述接触面与所述顶部之间具有最大宽度，且在所述接触面与具有所述最大宽度的部位之间具有比所述最大宽度小的宽度。

11.根据权利要求9所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：

所述间隔件包括：具有第一缺口的第一棒体；和与所述第一棒体交叉的具有第二缺口的第二棒体，

所述第一缺口与所述第二缺口嵌合。

12.根据权利要求11所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：

所述第一棒体和所述第二棒体各自的截面形状为圆形。

13.根据权利要求11所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：

所述第一棒体和所述第二棒体各自的宽度小于所述掩模框架的宽度。

14.根据权利要求11～13中任一项所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：

所述第一棒体和所述第二棒体各自的材料是有机树脂。

15.根据权利要求9所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：

所述间隔件具有井字形结构。

16.根据权利要求9所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：

从排气口进行真空排气，使得所述载置台与所述膜密接，所述载置台与所述膜之间的空间的真空度以表压来表示时为﹣90kPa以下。