[发明专利]一种基于旋转双光楔的像方扫描光学系统在审
申请号: | 202110125616.1 | 申请日: | 2021-01-29 |
公开(公告)号: | CN112799227A | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 杨克君;宇太坤 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨新光光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150028 黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 旋转 双光楔 扫描 光学系统 | ||
1.一种基于旋转双光楔的像方扫描光学系统,其特征在于,包括沿光路依次设置的望远光学系统、旋转双光楔扫描机构以及成像光学系统;其中旋转双光楔扫描机构包括结构相同的第一光楔和第二光楔,第一光楔和第二光楔能够通过旋转实现视场扫描。
2.根据权利要求1所述的基于旋转双光楔的像方扫描光学系统,其特征在于,所述第一光楔和第二光楔能够独立旋转,用于选取不同视场。
3.根据权利要求1所述的基于旋转双光楔的像方扫描光学系统,其特征在于,在所述旋转双光楔扫描机构和成像光学系统之间还包括至少一个反射镜,用于折转光路。
4.根据权利要求1所述的基于旋转双光楔的像方扫描光学系统,其特征在于,所述旋转双光楔扫描机构用于减少转动惯量。
5.根据权利要求1或4所述的基于旋转双光楔的像方扫描光学系统,其特征在于,所述旋转双光楔扫描机构用于减少扫描时所占用的空间大小。
6.根据权利要求2所述的基于旋转双光楔的像方扫描光学系统,其特征在于,所述第一光楔和第二光楔分别受第一电机和第二电机驱动发生旋转。
7.根据权利要求6所述的基于旋转双光楔的像方扫描光学系统,其特征在于,还包括控制器,用于计算期望达到的偏转角度,并控制第一电机和第二电机使第一光楔和第二光楔旋转至指定角度以接收指定视场。
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